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ZEMAX軟件培訓(xùn)教程PPT課件下載

素材大。
2.74 MB
素材授權(quán):
免費(fèi)下載
素材格式:
.ppt
素材上傳:
ppt
上傳時(shí)間:
2016-06-08
素材編號:
51981
素材類別:
培訓(xùn)教程PPT

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ZEMAX軟件培訓(xùn)教程PPT課件 ZEMAX軟件培訓(xùn)教程PPT課件

這是一個(gè)關(guān)于ZEMAX軟件培訓(xùn)教程PPT(部分ppt內(nèi)容已做更新升級)課件,主要介紹了國內(nèi)外光學(xué)設(shè)計(jì)軟件情況、ZEMAX已經(jīng)成為當(dāng)今使用最普遍的光學(xué)設(shè)計(jì)軟件、市場應(yīng)用等內(nèi)容。ZEMAX是Focus Software 公司產(chǎn)品——光學(xué)鏡頭設(shè)計(jì)和光學(xué)系統(tǒng)分析軟件,版本有三個(gè)等級;每年有數(shù)次版本更新,可以到ZEMAX的網(wǎng)站或者訊技光電科技公司的網(wǎng)站上下載更新,界面友好,容易上手;資料豐富,既可以直接選擇,又可以自定義,更多內(nèi)容,歡迎點(diǎn)擊下載ZEMAX軟件培訓(xùn)教程PPT(部分ppt內(nèi)容已做更新升級)課件哦。

ZEMAX軟件培訓(xùn)教程PPT課件是由紅軟PPT免費(fèi)下載網(wǎng)推薦的一款培訓(xùn)教程PPT類型的PowerPoint.

ZEMAX簡介(I)RhZ紅軟基地
  Focus Software 公司產(chǎn)品——光學(xué)鏡頭設(shè)計(jì)和光學(xué)系統(tǒng)分析軟件RhZ紅軟基地
 版本有三個(gè)等級:RhZ紅軟基地
     *ZEMAX—SE(標(biāo)準(zhǔn)版)RhZ紅軟基地
     *ZEMAX—XE(完整版)RhZ紅軟基地
     *ZEMAX—EE(專業(yè)版)RhZ紅軟基地
 每年有數(shù)次版本更新,可以到ZEMAX的網(wǎng)站或者訊技光電科技公司的網(wǎng)站上下載更新RhZ紅軟基地
                       www.infotek.com.twRhZ紅軟基地
ZEMAX簡介(II)RhZ紅軟基地
 界面友好,容易上手;資料豐富,既可以直接選擇,又可以自定義;RhZ紅軟基地
 可建立反射、 折射、衍射及散射等光學(xué)模型;RhZ紅軟基地
 可進(jìn)行偏振、鍍膜和溫度、氣壓等方面的分析RhZ紅軟基地
  具有強(qiáng)大的像質(zhì)評價(jià)和分析功能;RhZ紅軟基地
  豐富的資料庫,有現(xiàn)成的鏡頭和玻璃、樣板數(shù)據(jù),可供用戶選擇;RhZ紅軟基地
 大部分窗口都提供在線幫助,方便隨時(shí)獲取相關(guān)功能的在線解釋和幫助;RhZ紅軟基地
系統(tǒng)要求RhZ紅軟基地
WIN98,NT,2000,XPRhZ紅軟基地
200Mb 以上的硬盤空間RhZ紅軟基地
 最小的分辨率為:1024*768RhZ紅軟基地
 一個(gè)并行口或者USB接口用來接KEYRhZ紅軟基地
 64Mb以上內(nèi)存;如果進(jìn)行對象非常復(fù)雜、物理光學(xué)或散射和照明分析時(shí),最低要求是256MB,最好是512MbRhZ紅軟基地
What is ZEMAXRhZ紅軟基地
  ZEMAX是一個(gè)光學(xué)設(shè)計(jì)軟件,它使用sequential和non-sequential的方法模擬refractive,reflective和diffractive光線追跡。RhZ紅軟基地
ZEMAX用“surface”為sequential ray tracing建模;用“component”或solid object model為non-sequential ray tracing建模。 RhZ紅軟基地
Purely sequential :RhZ紅軟基地
      傳統(tǒng)的鏡頭設(shè)計(jì),和大多數(shù)成像系統(tǒng);RhZ紅軟基地
Hybrid sequential/ non-sequential(aka NSC with ports)RhZ紅軟基地
      同時(shí)有sequential組件和non-sequential組件(如prism,pipe)的系統(tǒng);RhZ紅軟基地
   用“ports”為光線進(jìn)入和離開NS group的出入口;RhZ紅軟基地
Purely non-sequential(aka NSC without ports)RhZ紅軟基地
    用于illumination,scattering,stray light analysis;RhZ紅軟基地
    不用“ports”。RhZ紅軟基地
Ray Tracing的3種方式(I)RhZ紅軟基地
(1)Purely Sequential:用于傳統(tǒng)的透鏡成像系統(tǒng)設(shè)計(jì);RhZ紅軟基地
•以光學(xué)面(surface)為對象來構(gòu)建光學(xué)系統(tǒng)模型;RhZ紅軟基地
•光線從物面開始(常為surface 0)RhZ紅軟基地
•按光學(xué)面的順序計(jì)算(surface 0,1,2…),對每個(gè)光學(xué)面只計(jì)算一次;RhZ紅軟基地
•每個(gè)面都有物空間和像空間;RhZ紅軟基地
•需要計(jì)算的光線少,計(jì)算速度快;RhZ紅軟基地
•可進(jìn)行analysis,Optimization及Tolerancing;RhZ紅軟基地
Sequential system例子RhZ紅軟基地
Ray Tracing的3種方式(II)RhZ紅軟基地
(2)Hybrid sequential/non-sequential(aka NSC with ports)RhZ紅軟基地
  •所有object都是3D shell or solids;RhZ紅軟基地
    •每個(gè)object都在一個(gè)空間坐標(biāo)系中定義了其特性;RhZ紅軟基地
  •光線從input port進(jìn)入non-sequential group;從exit port  離開NS group;RhZ紅軟基地
  •光線在NSC中一直追跡,直到它遇到下列情況才終止:RhZ紅軟基地
   NothingRhZ紅軟基地
   Exit portRhZ紅軟基地
   能量低于定義的閾值。RhZ紅軟基地
  •忽略NS group內(nèi)的光源和探測器;RhZ紅軟基地
  •進(jìn)入NS group的光線的特性,由序列性的系統(tǒng)數(shù)據(jù),如視場位置和瞳的大小等決定。RhZ紅軟基地
NSC with ports system例子RhZ紅軟基地
Ray Tracing的3種方式(III)RhZ紅軟基地
(3) Purely Non-sequential(aka NSC without port)RhZ紅軟基地
 •所有object都是3D shell or solids;RhZ紅軟基地
 •每個(gè)object都在一個(gè)空間坐標(biāo)系中定義了其特性;RhZ紅軟基地
 •需要定義光源的發(fā)光特性和位置,定義detector收集光線;RhZ紅軟基地
 •光線一直追跡,直到它遇到下列情況才終止:RhZ紅軟基地
   Nothing,RhZ紅軟基地
   能量低于定義的閾值。RhZ紅軟基地
 •計(jì)算時(shí)光學(xué)元件的相對位置由空間坐標(biāo)確定;對同一元件,可同時(shí)進(jìn)行穿透、反射、吸收及散射的特性計(jì)算;RhZ紅軟基地
 •無法作優(yōu)化及公差分析;RhZ紅軟基地
這種情況下,可以對光線進(jìn)行分光,散射,衍射,反射,折射。RhZ紅軟基地
NSC without ports system例子RhZ紅軟基地
ZEMAX用戶界面RhZ紅軟基地
ZEMAX用戶界面類型RhZ紅軟基地
ZEMAX有4種主要類型的用戶界面:RhZ紅軟基地
Editors:定義和編輯光學(xué)面和其他數(shù)據(jù);RhZ紅軟基地
Graphic windows:顯示圖形數(shù)據(jù);RhZ紅軟基地
Text windows:顯示文本數(shù)據(jù);RhZ紅軟基地
Dialog boxes:編輯和回顧其他窗口或系統(tǒng)的數(shù)據(jù),或者報(bào)告錯(cuò)誤信息等。RhZ紅軟基地
ZEMAX Editors界面RhZ紅軟基地
有很多種:RhZ紅軟基地
Lens data editor: 基本的lens data,包括surface type, radius, thickness, glass,etc.RhZ紅軟基地
Merit function editor:優(yōu)化時(shí),定義和編輯merit function;RhZ紅軟基地
Multi-Configuration editor:為變焦鏡頭和其它多重結(jié)構(gòu)系統(tǒng)定義多重結(jié)構(gòu)參數(shù);RhZ紅軟基地
Tolerance Data editor:定義和編輯公差數(shù)據(jù);RhZ紅軟基地
Extra Data editor:需要很多參數(shù)的surface data的擴(kuò)展;RhZ紅軟基地
Non-sequential component editor:定義和編輯NSC sources, objects, detectors。RhZ紅軟基地
ZEMAX EditorsRhZ紅軟基地
Graphic and Text 界面RhZ紅軟基地
有些功能(如layout)只支持圖形,有些只支持文本(如Seidel像差系數(shù)),有的都支持(如fan plot);RhZ紅軟基地
如果二者都支持,一般先給出圖形輸出,如果需要顯示text的內(nèi)容,需要點(diǎn)一下菜單欄中的“Text”;RhZ紅軟基地
Graphic and Text windows例子RhZ紅軟基地
Graphic and Text windows例子RhZ紅軟基地
點(diǎn)Text菜單欄,可以看到圖形窗口中的文本信息。RhZ紅軟基地
Graphics windows菜單功能RhZ紅軟基地
 Update:更新窗口中的數(shù)據(jù);RhZ紅軟基地
 Setting:設(shè)置窗口的屬性;RhZ紅軟基地
 Print:打印窗口的內(nèi)容;RhZ紅軟基地
 Windows:RhZ紅軟基地
Annotate:往圖形上加lines,boxes,text;RhZ紅軟基地
Copy clipboard:將內(nèi)容拷貝到剪切板中;RhZ紅軟基地
Export:將內(nèi)容轉(zhuǎn)換為WMF,EMF,JPG,BMP文件保存;RhZ紅軟基地
Lock:鎖定窗口;RhZ紅軟基地
Clone:Clone窗口;RhZ紅軟基地
Aspect ratio:設(shè)置窗口的長寬比;RhZ紅軟基地
Active cursor:對圖形窗口顯示鼠標(biāo)所指位置的數(shù)據(jù);RhZ紅軟基地
Configuration:選擇要顯示哪個(gè)結(jié)構(gòu)的數(shù)據(jù);RhZ紅軟基地
Overlay:不同圖形重疊顯示;RhZ紅軟基地
Text windows菜單功能RhZ紅軟基地
Text:產(chǎn)生圖形所對應(yīng)的文本數(shù)據(jù);RhZ紅軟基地
Zoom:對圖形放大和縮小控制RhZ紅軟基地
Update:更新窗口中的數(shù)據(jù);RhZ紅軟基地
Setting:設(shè)置窗口的屬性; RhZ紅軟基地
Print:打印窗口的內(nèi)容;RhZ紅軟基地
Windows:RhZ紅軟基地
Copy clipboard:將內(nèi)容拷貝到剪切板中;RhZ紅軟基地
Save: 保存ASCII TXT文件;RhZ紅軟基地
Lock:鎖定窗口;RhZ紅軟基地
Clone:Clone窗口;RhZ紅軟基地
Configuration:選擇要顯示哪個(gè)結(jié)構(gòu)的數(shù)據(jù);RhZ紅軟基地
Dialog boxesRhZ紅軟基地
  ZEMAX的大部分圖形和文本窗口都包含有設(shè)置對話框。RhZ紅軟基地
數(shù)據(jù)輸出RhZ紅軟基地
 輸出到到剪貼板,可以再到其它windows應(yīng)用程序,如Excel等;RhZ紅軟基地
 輸出到CAD程序:支持DXF,IGES,STEP,SAT格式。RhZ紅軟基地
DXF:RhZ紅軟基地
因?yàn)椴皇菢?biāo)準(zhǔn)格式,對其支持比較差一些;RhZ紅軟基地
只有在wireframe的設(shè)定中才支持。RhZ紅軟基地
IGES,STEP,SAT:RhZ紅軟基地
真正的標(biāo)準(zhǔn);RhZ紅軟基地
可以輸出3D solids;RhZ紅軟基地
可以輸出為lines;RhZ紅軟基地
在Tool菜單欄中。RhZ紅軟基地
Session file的概念RhZ紅軟基地
Session file :在保存文件時(shí),如果選擇Session file,則它包括lens file, 所有圖形和文本窗口,editors,它們在屏幕上的大小和位置,及每個(gè)窗口的設(shè)置。此時(shí),除了一個(gè)ZMX文件以外,還有一個(gè)SES文件。RhZ紅軟基地
Lens DataRhZ紅軟基地
Lens data的組成RhZ紅軟基地
Sequential lens data-Surface data:RhZ紅軟基地
面的序號;RhZ紅軟基地
每個(gè)面的相關(guān)結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù);RhZ紅軟基地
光學(xué)系統(tǒng)的孔徑;RhZ紅軟基地
波長;RhZ紅軟基地
視場。RhZ紅軟基地
進(jìn)行優(yōu)化時(shí),還需要:RhZ紅軟基地
變量;RhZ紅軟基地
優(yōu)化函數(shù)。RhZ紅軟基地
For NSC without port system,還需要:RhZ紅軟基地
所有object的結(jié)構(gòu)參數(shù)和位置參數(shù);RhZ紅軟基地
所有source和detector的特性參數(shù)和位置參數(shù);RhZ紅軟基地
波長。RhZ紅軟基地
Surface data的組成RhZ紅軟基地
The radius of curvature:面的曲率半徑,根據(jù)符號規(guī)則確定符號;RhZ紅軟基地
The thickness of the surface:到下個(gè)面的相對距離,滿足符號規(guī)則(用local坐標(biāo)系);RhZ紅軟基地
The glass type of the surface:可以直接輸入玻璃的名稱,也可以輸入折射率和色散系數(shù)(如果是空氣,則為空格);RhZ紅軟基地
The semi-diameter of the surface(optional):面的孔徑;RhZ紅軟基地
Other data(parameter or extra data):描述面形的參數(shù)。RhZ紅軟基地
Surface data的符號規(guī)則RhZ紅軟基地
Surface TypeRhZ紅軟基地
(1)提供了近60種的光學(xué)曲面面形。主要類型有:平面、球面、標(biāo)準(zhǔn)二次曲面、非球面、光錐面、輪胎面、折射率漸變面、二元光學(xué)面、光柵(固定周期和變周期)、全息衍射元件、Fresnel透鏡、波帶片等。RhZ紅軟基地
(2)還提供了User Defined Surface。用戶只需要按照它的語法規(guī)定,用C++語言編寫DLL文件與ZEMAX相連接就可以建立自己需要的面形。RhZ紅軟基地
The system apertureRhZ紅軟基地
它是很重要的一個(gè)參數(shù),決定入瞳的大小,它決定光學(xué)系統(tǒng)在物空間收集多少光線。RhZ紅軟基地
System aperture typesRhZ紅軟基地
•Entrance Pupil Diameter(EPD):直接指定入瞳的大;RhZ紅軟基地
•Image Space F/#:無限共軛像空間近軸F數(shù)(f/D,只用于物距無窮遠(yuǎn));RhZ紅軟基地
•Object Space Numerical Aperture:物空間邊緣光線的數(shù)值孔徑nsinθ(物在有限遠(yuǎn)處,保持N.A.為常數(shù));RhZ紅軟基地
•Float by Size:EPD的大小由光欄的半徑?jīng)Q定;RhZ紅軟基地
•Paraxial working F/#:像空間中定義的共軛近軸1/2ntan,忽略像差;RhZ紅軟基地
•Object Cone Angle:物空間邊緣光線的半角,最大可以達(dá)到90度(物在有限遠(yuǎn))。RhZ紅軟基地
Field pointsRhZ紅軟基地
ZEMAX常常用點(diǎn)光源定義視場或物的大小:RhZ紅軟基地
定義了點(diǎn)光源以后,可以建立擴(kuò)展光源的模型;RhZ紅軟基地
對每個(gè)系統(tǒng)最多可以定義12個(gè)視場點(diǎn)。RhZ紅軟基地
ZEMAX支持4種不同視場形式:RhZ紅軟基地
Field angle:投影到入瞳上XZ和YZ平面上時(shí),主光線與Z軸的夾角。大多用在無限共軛系統(tǒng)。RhZ紅軟基地
Object height:物面上X,Y高度。大多用在有限共軛系統(tǒng)。(注:如果物面為曲面,則X,Y坐標(biāo)包含Z坐標(biāo))RhZ紅軟基地
Paraxial Image height:像面上的近軸像高。用于需要固定像的大小的設(shè)計(jì)中。(只用于近軸光學(xué)系統(tǒng)中)RhZ紅軟基地
Real image height:像面上實(shí)際像高。用于需要固定frame size的設(shè)計(jì)中(如camera lenses)。RhZ紅軟基地
Field points示例RhZ紅軟基地
WavelengthsRhZ紅軟基地
ZEMAX對每個(gè)系統(tǒng)最多允許定義12個(gè)波長。并且必須指定主波長,根據(jù)不同波長的重要性,權(quán)重可以不同。RhZ紅軟基地
波長的單位為微米。RhZ紅軟基地
Variable parametersRhZ紅軟基地
在進(jìn)行優(yōu)化設(shè)計(jì)時(shí),需要設(shè)置變量,ZEMAX會(huì)調(diào)整這些變量,以找到最佳設(shè)計(jì)結(jié)果。RhZ紅軟基地
變量可以是任何量,包括radii, thicknesses, indices, V numbers, partial dispersions, conic constants, tilt angles, 甚至fields and wavelengths。RhZ紅軟基地
Merit functionsRhZ紅軟基地
優(yōu)化函數(shù)是用來定義優(yōu)化控制目標(biāo)項(xiàng)目。它包括設(shè)計(jì)目標(biāo),邊界條件和計(jì)算結(jié)果的總結(jié)。RhZ紅軟基地
在優(yōu)化過程中,用merit function的值來評價(jià)一個(gè)系統(tǒng)的優(yōu)劣。RhZ紅軟基地
Merit function由optimization operands組成,ZEMAX提供了200多個(gè)這樣的操作數(shù),涵蓋了各種目標(biāo)控制條件。RhZ紅軟基地
TolerancingRhZ紅軟基地
ZEMAX可以對光學(xué)面的參數(shù)和群組的參數(shù)進(jìn)行公差分析。它提供了二種公差分析模式:RhZ紅軟基地
(1)sensitivity:給定結(jié)構(gòu)參數(shù)的公差范圍,計(jì)算評價(jià)標(biāo)準(zhǔn)的影響,RhZ紅軟基地
(2)inverse sensitivity:給出評價(jià)標(biāo)準(zhǔn)量的允許變化范圍,反算出結(jié)構(gòu)參數(shù)的公差。RhZ紅軟基地
結(jié)果報(bào)告RhZ紅軟基地
可以給出各種數(shù)據(jù)的結(jié)果報(bào)告,可以是圖形、曲線或表格的形式:RhZ紅軟基地
(1)surface dataRhZ紅軟基地
(2)system dataRhZ紅軟基地
(3)prescription dataRhZ紅軟基地
(4)report graphicRhZ紅軟基地
可以輸出零件圖、固體圖RhZ紅軟基地
     或網(wǎng)格圖。RhZ紅軟基地
可以輸出SAT/STEP/IGESRhZ紅軟基地
     等文件格式。RhZ紅軟基地
其他RhZ紅軟基地
包含有很多公司的玻璃材料庫,RhZ紅軟基地
可以進(jìn)行鍍膜分析,可以編輯薄膜,RhZ紅軟基地
可以進(jìn)行熱分析,RhZ紅軟基地
可以進(jìn)行偏振光計(jì)算,RhZ紅軟基地
可以進(jìn)行物理光學(xué)分析和計(jì)算,RhZ紅軟基地
可以進(jìn)行樣板比對。RhZ紅軟基地
練習(xí):SingletRhZ紅軟基地
目的:練習(xí)如何建立初始結(jié)構(gòu)、設(shè)定視場和工作波長。RhZ紅軟基地
題目:RhZ紅軟基地
建立一個(gè)單透鏡,入瞳直徑為40mm,二個(gè)面的曲率半徑分別為50mm,-60mm,中心厚度為4mmRhZ紅軟基地
視場0,7,10度RhZ紅軟基地
波長:可見光RhZ紅軟基地
玻璃材料:BK7RhZ紅軟基地
SolvesRhZ紅軟基地
What are solves?RhZ紅軟基地
Solves 是ZEMAX中可以主動(dòng)調(diào)整特定值的功能?梢詾 curvatures, thicknesses,glasses, semi-diameters, conics, and parameters等參數(shù)指定solve。RhZ紅軟基地
 Solves的設(shè)置,只需要在希望放置solve功能的欄中點(diǎn)右鍵或雙擊左鍵就可以了。RhZ紅軟基地
Solves的應(yīng)用有很多:RhZ紅軟基地
Maintaining F/#:用MRA或F/# curvature solve;RhZ紅軟基地
Maintaining paraxial focus:用MRH;RhZ紅軟基地
Maintaining edge thickness;RhZ紅軟基地
Linking values together:pickup solve;RhZ紅軟基地
Holding a distance between surfaces:position solve。RhZ紅軟基地
Curvature solvesRhZ紅軟基地
Marginal ray angle or F/#RhZ紅軟基地
Marginal ray angle θm(r/f)決定F/#:RhZ紅軟基地
    F/#=1/2NA=1/2nsin (θm)RhZ紅軟基地
  如果系統(tǒng)為slow(即F/#大,如F/10或更慢)時(shí),RhZ紅軟基地
F/#=1/2nsin (θm)=1/(2 nθ)RhZ紅軟基地
 RhZ紅軟基地
 MRA solve可以調(diào)整任何面(一般是最后一個(gè)glass-air面)的曲率半徑,在優(yōu)化時(shí),保持F/#固定不變。 θm (r/f,-號表示是會(huì)聚光,+號表示是發(fā)散光),可以控制透鏡的有效焦距f(EFL);RhZ紅軟基地
Curvature solvesRhZ紅軟基地
Chief ray angle:控制特定的放大率或使出射光線保持準(zhǔn)直(maintaining collimation);RhZ紅軟基地
Pick up:指定前面某個(gè)面,使當(dāng)前面的曲率半徑和指定的面保持確定關(guān)系;RhZ紅軟基地
Marginal ray normal:迫使光學(xué)面與近軸邊緣光線垂直,也叫image-centered surface。產(chǎn)生沒有球差或彗差的光學(xué)面;RhZ紅軟基地
Chief ray normal: 迫使光學(xué)面與近軸主光線垂直,也叫pupil-centered surface。產(chǎn)生沒有彗差、像散或畸變的光學(xué)面;RhZ紅軟基地
Alplanatic(齊明的): 迫使光學(xué)面對近軸邊緣光線齊明的(消球差)。產(chǎn)生沒有球差、彗差或像散的等光程光學(xué)面。RhZ紅軟基地
Curvature solvesRhZ紅軟基地
Element power:光學(xué)系統(tǒng)的光焦度(n/f)。使指定的光學(xué)元件的光焦度保持不變,可以控制有效焦距;RhZ紅軟基地
Concentric with surface:控制面的曲率,使這個(gè)面的曲率中心落在前面某個(gè)面上;RhZ紅軟基地
Concentric with radius:控制面的曲率,使此面的中心與指定的面(前面)的中心為同一點(diǎn)。RhZ紅軟基地
F/#(F number):控制面的曲率,使從這個(gè)面出射的邊緣光線角為  -1/2F(F即為D/f, D為入瞳直徑, f為有效焦距)?梢钥刂葡到y(tǒng)的有效焦距。RhZ紅軟基地
Thickness solvesRhZ紅軟基地
Thickness solvesRhZ紅軟基地
• Marginal ray height:定位像平面(常用控制近軸邊緣光線在后一個(gè)面上的高度,使像面處在近軸焦點(diǎn)上);還可以約束特定的光束;RhZ紅軟基地
• Chief ray height:定位pupil plane(近軸主光線高度)?梢詫⒐鈱W(xué)面移到瞳面上;(應(yīng)用:1、它可以將參考面固定地處在pupil上,2、定位入、出瞳);RhZ紅軟基地
• Edge thickness:控制二個(gè)面之間的距離,使其在半徑為某個(gè)值處為規(guī)定的值?梢员苊膺吘壓穸葹樨(fù)或邊緣太尖銳;RhZ紅軟基地
Pick up:使這個(gè)面的thickness值隨指定的面按一定規(guī)律變化;(主要用于:double pass system, endoscopes,relay lens等包含多個(gè)相同元件的系統(tǒng)中),RhZ紅軟基地
Thickness solvesRhZ紅軟基地
Optical path difference:調(diào)整thickness,使指定光瞳坐標(biāo)處的光程差維持一個(gè)指定的值;例如:在焦點(diǎn)上,邊緣光線和主光線的光程差相等,可以在像面前面的一個(gè)面的厚度處設(shè)置OPD Solve。RhZ紅軟基地
Position:使這個(gè)面到指定參考面的距離(厚度的總和)保持為定值。在變焦鏡頭設(shè)計(jì)中,可以控制它的某一部分保持固定的長度。也可以約束整個(gè)透鏡的長度。RhZ紅軟基地
Compensator:與position非常類似,顯示的是所要控制的厚度與參考面厚度之差。表達(dá)式為:T=S-R。S為二個(gè)面的厚度之和,R為參考面的厚度。參考面必須在前面。RhZ紅軟基地
Center of Curvature:調(diào)整thickness的值,使后面一個(gè)面處在前面某個(gè)面的曲率中心上。RhZ紅軟基地
Glass solvesRhZ紅軟基地
Glass solvesRhZ紅軟基地
Model: 用于玻璃的優(yōu)化。用三個(gè)參數(shù):d光的折射率、Abbe數(shù)和部分色散項(xiàng)。只能用于可見光,可能得到不存在的玻璃;(不常用)RhZ紅軟基地
• Pick up:隨某個(gè)指定的面一起變化;RhZ紅軟基地
• Substitute:用于glass optimization,它更容易且可靠。在優(yōu)化時(shí),用hummer優(yōu)化算法查到合適的玻璃。RhZ紅軟基地
Offset:允許在折射率或者Abbe數(shù)上增加一個(gè)小的偏移量。用于公差計(jì)算。RhZ紅軟基地
Semi-Diameter solvesRhZ紅軟基地
Semi-Diameter solvesRhZ紅軟基地
Automatic:根據(jù)入瞳自動(dòng)調(diào)整孔徑大小RhZ紅軟基地
Fixed:輸入為固定的值RhZ紅軟基地
Pick upRhZ紅軟基地
Maximum:在multiple configuration中,計(jì)算所有結(jié)構(gòu)中的半徑值,然后使用最大的一個(gè)值。RhZ紅軟基地
其它solvesRhZ紅軟基地
Conic, Parameters也可以設(shè)置solve,但一般只有Fixed, Variable和Pick up三種類型。RhZ紅軟基地
Coord break的Parameters可以設(shè)置chief ray的求解類型。只用于coordinate break面的前4個(gè)參數(shù)。RhZ紅軟基地
Solve使用建議RhZ紅軟基地
Solve的計(jì)算是從第1個(gè)面到像面順序進(jìn)行的,對參數(shù)計(jì)算的順序是:curvature, thickness, glass, semi-diameter, conic, parameter;RhZ紅軟基地
因?yàn)閏urvature和thickness的求解會(huì)影響入瞳的位置,所以不允許將依賴于光線追跡的求解放在光欄的前面(如marginal ray height);RhZ紅軟基地
Solve是高效的,在設(shè)計(jì)過程中盡可能用它來代替優(yōu)化變量控制一些參數(shù)。RhZ紅軟基地
練習(xí)RhZ紅軟基地
用Solve求解的方法,將前面設(shè)計(jì)的單透鏡的焦距控制為100mm,RhZ紅軟基地
用Solve將像面移到焦點(diǎn)上。RhZ紅軟基地
AnalysisRhZ紅軟基地
像質(zhì)評價(jià)與分析RhZ紅軟基地
※ ZEMAX提供了豐富的像質(zhì)評價(jià)指標(biāo),評價(jià)小像差系統(tǒng)的波像差、圓內(nèi)能量集中度;評價(jià)大像差系統(tǒng)的點(diǎn)列圖、彌散圓;MTF、PSF;幾何像差評價(jià)方法。RhZ紅軟基地
※可以給出Seidel和ZERNIKE像差系數(shù)RhZ紅軟基地
※可以進(jìn)行擴(kuò)展光源的分析RhZ紅軟基地
※像質(zhì)評價(jià)結(jié)果表現(xiàn)形式多種多樣,既有各種直觀的圖形表示方法,也有詳細(xì)的數(shù)據(jù)報(bào)表。RhZ紅軟基地
像質(zhì)評價(jià)報(bào)告結(jié)果示例RhZ紅軟基地
像質(zhì)評價(jià)指標(biāo)RhZ紅軟基地
※Fans(扇形圖,垂軸幾何像差等)RhZ紅軟基地
※Spot Diagram(幾何點(diǎn)列圖,彌散斑)RhZ紅軟基地
※MTF(調(diào)制傳遞函數(shù))RhZ紅軟基地
※PSF(點(diǎn)擴(kuò)展函數(shù))RhZ紅軟基地
※Wavefront(波像差)RhZ紅軟基地
※能量分析RhZ紅軟基地
※Miscellaneous(雜項(xiàng),幾何像差)RhZ紅軟基地
※像差系數(shù)RhZ紅軟基地
※擴(kuò)展光源分析RhZ紅軟基地
LayoutRhZ紅軟基地
• 2D,3D:系統(tǒng)的2維和3維圖。如果系統(tǒng)不是旋轉(zhuǎn)對稱的,則只能用3D layout;RhZ紅軟基地
• Wireframe:3維網(wǎng)格圖;RhZ紅軟基地
• Shaded Model,Solid Model:3維固體圖。solid model plot 對一些自定義的apertures or obscurations不能正確畫出地surface;RhZ紅軟基地
• Zemax Element Drawing:用于車間加工的工程圖?梢允莝urface, singlet, doublet;RhZ紅軟基地
• ISO Element Drawing:按照ISO 10110標(biāo)準(zhǔn)。可以是surface, singlet, doublet。RhZ紅軟基地
• NSC LayoutRhZ紅軟基地
FanRhZ紅軟基地
• Ray Aberration:子午和弧矢垂軸像差,它全面反映了細(xì)光束和寬光束的成像質(zhì)量。它是光線在理想像面上的交點(diǎn)和主光線在理想像面上交點(diǎn)間的距離,可以看出理想像面上像的最大彌散范圍。橫坐標(biāo)是歸一化入瞳坐標(biāo)。RhZ紅軟基地
 • Optical Path:實(shí)際光線和主光線的OPD之差(波像差)。OPD vs. 歸一化出瞳坐標(biāo)曲線圖;只能對光欄后的面進(jìn)行計(jì)算。RhZ紅軟基地
 • Pupil Aberration:光欄面上實(shí)際光線交點(diǎn)和軸上主波長近軸光線交點(diǎn)坐標(biāo)之差與近軸光欄半徑之比。光欄面上入瞳畸變 vs. 歸一化入瞳坐標(biāo)?梢灾笇(dǎo)是否要用ray aiming。RhZ紅軟基地
Spot DiagramsRhZ紅軟基地
• Standard:顯示不同視場的Spot Diagram,給出GEO 和RMS spot size及Airy Disk;RhZ紅軟基地
• Through focus:離開焦平面不同距離的spot diagram?梢怨罍y像散,或者分析最佳焦點(diǎn)或者焦深;RhZ紅軟基地
•Full Field:所有視場的點(diǎn)列圖?梢源_認(rèn)二個(gè)很近的像點(diǎn)是否能夠被分辨;RhZ紅軟基地
•Matrix, Configuration Matrix:同時(shí)列出不同結(jié)構(gòu)的所有視場的點(diǎn)列圖。RhZ紅軟基地
FFT MTFRhZ紅軟基地
• FFT MTF:用FFT算法計(jì)算所有視場的衍射MTF(OPD<10wave)。假定在出瞳上的光線分布是均勻的。截止頻率為1/(λF/#)=1/2λnsinθ;物的類型有:正弦波(real, imaginary, phase)和方波(square)響應(yīng)。RhZ紅軟基地
•FFT Through Focus MTF:在指定空間頻率下,F(xiàn)FT   MTF vs. focus shift;RhZ紅軟基地
•FFT Surface MTF:顯示MTF數(shù)據(jù)的3D surface, contour, grey scale 或Color map;RhZ紅軟基地
•FFT MTF vs. Field:以圖的形式顯示FFT MTF vs. Field position;RhZ紅軟基地
•FFT MTF map:在一個(gè)矩形視場區(qū)域內(nèi),計(jì)算不同視場點(diǎn)的FFT MTF。RhZ紅軟基地
Huygens MTFRhZ紅軟基地
• Huygens MTF:計(jì)算Huygens PSF的FFT。出瞳存在嚴(yán)重的拉伸時(shí),在出瞳上的光線分布不均勻,比FFT MTF更普遍使用。RhZ紅軟基地
•Huygens Through Focus MTF: vs. focus shift:在不同離焦距離下的Huygens MTF的變化曲線;RhZ紅軟基地
•Huygens Surface MTF:用MTF的surface, grey scale, false color 或者contour plot顯示數(shù)據(jù)。RhZ紅軟基地
Geometric MTFRhZ紅軟基地
• Geometric MFT:是衍射MTF的近似。當(dāng)OPD比較大時(shí)(如10個(gè)波長),或者不接近衍射極限時(shí),計(jì)算幾何MTF;RhZ紅軟基地
• Geometric Through Focus MFT:在指定的空間頻率下,離焦點(diǎn)不同距離處的MTF分布。RhZ紅軟基地
• Geometric MFT vs. Field:MTF隨視場的分布曲線。RhZ紅軟基地
• Geometric MTF Map:MTF vs. X,Y視場。X,Y坐標(biāo)表示二個(gè)方向的視場,用偽彩色表示MTF隨視場的分布情況RhZ紅軟基地
PSFRhZ紅軟基地
• FFT PSF:用FFT的方法計(jì)算衍射的PSF。出瞳上波前復(fù)振幅的FFT,計(jì)算系統(tǒng)中單個(gè)點(diǎn)光源通過系統(tǒng)所成衍射像的強(qiáng)度,計(jì)算速度快。RhZ紅軟基地
• FFT PSF Cross Section:FFT PST剖面圖;RhZ紅軟基地
• FFT Line/Edge Spread:FFT線/刀口擴(kuò)散函數(shù);RhZ紅軟基地
• Huygens PSF:根據(jù)Huygens原理,用Huygens子波直接積分的方法計(jì)算。認(rèn)為波面上每個(gè)點(diǎn)是一個(gè)理想的點(diǎn)光源,即子波(wavelet)。唯一不足是計(jì)算速度慢。RhZ紅軟基地
• Huygens PSF Cross Section: Huygens PST剖面圖RhZ紅軟基地
WavefrontRhZ紅軟基地
• Wavefront Map:顯示波像差圖。RhZ紅軟基地
• Interferogram(用于干涉系統(tǒng)分析中):產(chǎn)生和顯示干涉圖;RhZ紅軟基地
• Foucault Analysis(傅科刀口分析):產(chǎn)生和顯示Foucault刀口陰影圖。模擬焦點(diǎn)附近任何位置上x或者y方向的刀口,然后計(jì)算由刀口漸暈光束回到近場的陰影圖。RhZ紅軟基地
SurfaceRhZ紅軟基地
• Surface Sag:在XY平面上均勻網(wǎng)格點(diǎn)上計(jì)算的,顯示z方向的sag值。RhZ紅軟基地
 • Surface Phase:顯示某個(gè)面對通過的光線的位相改變情況,單位為周期。RhZ紅軟基地
RMSRhZ紅軟基地
RMS vs. Field:RMS radial, x, and y spot radius, RMS wavefront error, or Strehl ratio對視場角的變化曲線;RhZ紅軟基地
RMS vs. Wavelength:RMS radial, x, and y spot radius, RMS wavefront error, or Strehl ratio對波長的變化曲線;RhZ紅軟基地
RMS vs. Focus:RMS radial, x, and y spot radius, RMS wavefront error, or Strehl ratio對焦點(diǎn)位置變化的曲線。RhZ紅軟基地
Encircled energyRhZ紅軟基地
• Diffraction:點(diǎn)物的像面上,某個(gè)半徑范圍內(nèi)包含的能量占整個(gè)能量的百分比 vs. 到主光線或像的質(zhì)心的距離;RhZ紅軟基地
• Geometric:用光線-像面交點(diǎn)數(shù)目的方法計(jì)算園內(nèi)能量;RhZ紅軟基地
•Line/Edge Response:計(jì)算線物或者邊緣物(半無限大平面)的像的光強(qiáng)分布圖的截面圖;RhZ紅軟基地
•Extended Source:用擴(kuò)展光源分析。RhZ紅軟基地
IlluminationRhZ紅軟基地
• Relative Illumination:在均勻的Lambertian照明下,出瞳上相對照度 vs. radial  y  field 曲線;RhZ紅軟基地
• Vignetting Plot:漸暈光線比例 vs.視場角曲線;RhZ紅軟基地
• Illumination XY scan:擴(kuò)展光源,沿像面截面照度的分布曲線;RhZ紅軟基地
• Illumination 2D surface:在一個(gè)二維面上計(jì)算擴(kuò)展光源的照度分布的像。RhZ紅軟基地
Image AnalysisRhZ紅軟基地
Image Analysis實(shí)際上就是擴(kuò)展光源成像分析。主要目的是顯示物通過光學(xué)系統(tǒng)后的直觀像。這個(gè)物可以是自定義,也可以是標(biāo)準(zhǔn)的24-bit彩色BMP或JPEG文件,可以是任何形狀。RhZ紅軟基地
有三類image analysis:RhZ紅軟基地
(1)Geometric using IMA file:適合看大視場的效果和大像差系統(tǒng),如畸變;RhZ紅軟基地
(2)Geometric using BMP file:同(1)RhZ紅軟基地
(3)Diffraction using IMA file:適合看小視場和中等像差的系統(tǒng)效果,如外形邊緣的衍射模糊。RhZ紅軟基地
Image AnalysisRhZ紅軟基地
•Geometric Image Analysis:可以對擴(kuò)展光源建模、分析分辨率、表示所成像的物的外貌及直觀地看到像的旋轉(zhuǎn)情況;用特殊的IMA or BIM文件。RhZ紅軟基地
•Geometric bitmap Image Analysis:用RGB bitmap文件作光源,產(chǎn)生RGB彩色像。用幾何光線追跡;RhZ紅軟基地
• Diffraction Image Analysis:基于Fourier光學(xué),用OTF計(jì)算擴(kuò)展光源的像的外觀。OTF不變;這種方法考慮有限通帶和其它在像面上與衍射有關(guān)效應(yīng)。RhZ紅軟基地
• Extended Diffraction Image Analysis:用OTF計(jì)算擴(kuò)展光源的像的外觀。 像面上不同視場上的OTF不同。RhZ紅軟基地
MiscellaneousRhZ紅軟基地
• Field Curvature:不同視場的場曲曲線;當(dāng)前焦平面到近軸焦面的距離,縱軸為歸一化視場,(S,T曲線之間的橫向距離就是象散)RhZ紅軟基地
• Distortion:不同視場的畸變曲線;RhZ紅軟基地
• Grid Distortion:網(wǎng)格畸變圖;RhZ紅軟基地
• Footprint Diagram:足跡圖分析。光線在不同面上的分布情況圖;RhZ紅軟基地
• Longitudinal Aberration:縱向像差,即球差?v軸是歸一化入瞳坐標(biāo),橫軸是像面到光線與光軸交點(diǎn)之間的距離。僅用于旋轉(zhuǎn)對稱系統(tǒng)。RhZ紅軟基地
• Lateral Color:橫向色差,即垂軸色差(或放大率色差) Vs. 視場。僅用于旋轉(zhuǎn)對稱系統(tǒng)。RhZ紅軟基地
MiscellaneousRhZ紅軟基地
•Y-Ybar圖:每個(gè)面上邊緣光線高度 Vs.近軸斜入射主光線高度;RhZ紅軟基地
•Chromatic Focal Shift:彩色焦移曲線。后節(jié)距隨波長的變化曲線;RhZ紅軟基地
• Dispersion Diagram:玻璃色散曲線。折射率 vs.波長;RhZ紅軟基地
•Glass Map:根據(jù)折射率和Abbe數(shù)畫出的玻璃分布圖;RhZ紅軟基地
• Int. Transmission vs. Wavelength:不同厚度的玻璃透過率情況。RhZ紅軟基地
Aberration coefficientsRhZ紅軟基地
Seidel Coefficients:顯示每個(gè)面的Seidel系數(shù),包括總的,橫向的,縱向的和波像差的系數(shù);只能適用于所有面都是standard surface的系統(tǒng);RhZ紅軟基地
Zernike Fringe Coefficients:用條紋多項(xiàng)式表示的Zernike系數(shù),共37項(xiàng);RhZ紅軟基地
Zernike Standard Coefficients:正交的Zernike coefficients,共28項(xiàng);RhZ紅軟基地
Zernike Annular Coefficients:正交的Zernike coefficients,共22項(xiàng);RhZ紅軟基地
CalculationsRhZ紅軟基地
•Ray Trace:單根近軸和真實(shí)光線追跡時(shí),光線在各個(gè)面上的交點(diǎn)坐標(biāo)(光線的方向余弦、角的正切、近軸邊緣光線和主光線的夾角);RhZ紅軟基地
•Fiber Coupling Efficiency:計(jì)算單模光纖耦合系統(tǒng)的耦合效率。RhZ紅軟基地
•YNI Contributions:列出每個(gè)面的近軸YNI(Y:近軸像高;N:折射率,I:入射角)貢獻(xiàn)值;拉赫不變量。RhZ紅軟基地
• Sag Table:列出所選面上,距頂點(diǎn)不同距離處的surface sag(z坐標(biāo))。給出最佳擬合球面的數(shù)據(jù)及偏差,在鏡頭制造時(shí)有用。只考慮y坐標(biāo),所以對非旋轉(zhuǎn)對稱系統(tǒng)會(huì)無意義。RhZ紅軟基地
• Cardinal Points:基點(diǎn)。給出所選擇的面范圍內(nèi)的子系統(tǒng)對所選波長的焦面、主(反主)平面、節(jié)(反節(jié))平面。RhZ紅軟基地
PolarizationRhZ紅軟基地
Polarization Ray Trace:顯示單根光線的偏振數(shù)據(jù);RhZ紅軟基地
• Polarization pupil map:顯示瞳上偏振狀態(tài)的變化情況;不同面上偏振橢圓 vs.瞳位置圖;RhZ紅軟基地
• Transmission:考慮偏振時(shí),主光線在各個(gè)面上的透射率;RhZ紅軟基地
Phase Aberration:計(jì)算偏振引起的光學(xué)系統(tǒng)的像差,主要是電介質(zhì)折射和導(dǎo)體及電介質(zhì)的反射引起的。指定視場和波長,像面上X和Y方向的偏振位相像差。RhZ紅軟基地
Transmission Fan:每個(gè)視場和波長上,透過率vs.瞳上弧矢或子午光瞳像差?梢源_定瞳上透過率對視場和波長的變化情況。RhZ紅軟基地
CoatingsRhZ紅軟基地
• Reflection:反射光線,計(jì)算電場的S,P分量及其平均偏振強(qiáng)度系數(shù)對入射角及波長的關(guān)系曲線;RhZ紅軟基地
• Transmission:透射光線,計(jì)算電場的S,P分量及其平均偏振強(qiáng)度系數(shù)對入射角及波長的關(guān)系曲線;RhZ紅軟基地
• Absorption:吸收光線,計(jì)算電場的S,P分量及其平均偏振強(qiáng)度系數(shù)對入射角及波長的關(guān)系曲線;RhZ紅軟基地
• Diattenuation: 反射R和透射T的二次衰減對入射角和波長的關(guān)系曲線;RhZ紅軟基地
• Phase: 反射或者透射光線的S和P偏振的位相對入射角和波長的關(guān)系曲線;RhZ紅軟基地
• Retardance:計(jì)算指定面的位相延遲。RhZ紅軟基地
OptimizationRhZ紅軟基地
內(nèi)容提要RhZ紅軟基地
   Optimization概述RhZ紅軟基地
 Damped least squaresRhZ紅軟基地
 ConstraintsRhZ紅軟基地
 Default Merit functionsRhZ紅軟基地
 Operands RhZ紅軟基地
 RhZ紅軟基地
 Optimization概述RhZ紅軟基地
 optimization是ZEMAX最重要的功能之一。RhZ紅軟基地
 optimization是通過改變光學(xué)系統(tǒng)中的結(jié)構(gòu)參數(shù)(變量)的值,提高系統(tǒng)的成像質(zhì)量。 這些變量可以是 surface curvatures, element and air-space thicknesses, tilt angles, etc. RhZ紅軟基地
用Operands定義Merit function,通過比較給定光學(xué)系統(tǒng)和滿足所有設(shè)計(jì)要求的系統(tǒng)的MF值,來評價(jià)系統(tǒng)的好壞。RhZ紅軟基地
一般用迭代(iterative)的方法, 為變量選定一個(gè)起始點(diǎn)和一種優(yōu)化算法,迭代地改變變量的值,以找出最小的MF值。RhZ紅軟基地
Local OptimizationRhZ紅軟基地
這種近似與初始點(diǎn)的選擇有關(guān) :如果起始點(diǎn)選在Region A or Region C, 則可以在x = a or x = c到達(dá) local 最小值,而不是在x = b處的 global 最小值。RhZ紅軟基地
Local VS. Global OptimizationRhZ紅軟基地
Local optimization:從給定的起始點(diǎn),找到能夠達(dá)到的最佳設(shè)計(jì);上圖中的a,b,c都是Local最佳設(shè)計(jì)值;RhZ紅軟基地
Global optimization:在一個(gè)范圍內(nèi)找到最佳設(shè)計(jì)。上圖中只有b是Global 最佳設(shè)計(jì)值。RhZ紅軟基地
Optimization過程RhZ紅軟基地
Damped Least Squares(DLS)RhZ紅軟基地
DLS算法是所有光學(xué)設(shè)計(jì)軟件中的基本優(yōu)化算法。RhZ紅軟基地
 假定Merit function定義為如下形式:RhZ紅軟基地
 RhZ紅軟基地
式中W為操作數(shù)的權(quán)重的絕對值, V為當(dāng)前值, T 是目標(biāo)值,下標(biāo)i是操作數(shù)的號碼 (row number in the spreadsheet).RhZ紅軟基地
目標(biāo):找出x使MF的值最小。RhZ紅軟基地
ConstraintsRhZ紅軟基地
要約束某個(gè)量,可以有三種方法:RhZ紅軟基地
Solves:可以精確地對一些近軸特性進(jìn)行控制。如在鏡頭的最后一個(gè)面設(shè)置axial ray angle solve為–0.1,則可以使 f–number保持常數(shù) 5;RhZ紅軟基地
在 Merit function用操作數(shù)控制變量的范圍:在Merit function中增加operand,控制某個(gè)量的最大值或最小值。如厚度>10;RhZ紅軟基地
Constraint operands:控制Operand,使控制的量為定義的精確數(shù)值。RhZ紅軟基地
Common constraintsRhZ紅軟基地
Lens 要有一定的size,cost,weightRhZ紅軟基地
Edge和center thickness必須為正RhZ紅軟基地
Minimum number of elements desiredRhZ紅軟基地
加工制造盡可能簡單RhZ紅軟基地
盡可能用便宜的材料RhZ紅軟基地
Default Merit functionsRhZ紅軟基地
Default Merit functionsRhZ紅軟基地
 支持20多個(gè)不同的Default Merit functions:RhZ紅軟基地
Optimization type:RMS or Peak-To-ValleyRhZ紅軟基地
Data type: Wavefront, spot radius, spot x, spot y, or spot x plus spot yRhZ紅軟基地
Reference point:Reference to Centroid ,Chief  Ray or MeanRhZ紅軟基地
Pupil integration method:Use Gaussian Quadrature or Rectangular ArrayRhZ紅軟基地
上面的優(yōu)化函數(shù)可以自由組合。RhZ紅軟基地
 Gaussian Quadrature:幾乎所有的情況下都用GQ,因?yàn)樗绕渌椒ň_得多,而且用的光線的數(shù)目也很少;不能有漸暈系數(shù)。RhZ紅軟基地
 Rectangular Array:GQ的唯一缺點(diǎn)是不能用在帶孔的光學(xué)系統(tǒng)中,這時(shí)候只有用RA。RA算法的優(yōu)點(diǎn)是能夠精確計(jì)算優(yōu)化函數(shù)中的漸暈效應(yīng)。RhZ紅軟基地
Default Merit functionsRhZ紅軟基地
Optimization type:系統(tǒng)缺省的優(yōu)化類型:RhZ紅軟基地
  1)RMS(common use);  RhZ紅軟基地
 2)PTV(rare use):如,如果所有的光線需要落在Fiber或detector的一個(gè)園形區(qū)域內(nèi),這時(shí) Peak-To-Valley (PTV)會(huì)更好。它使誤差的PTV的范圍最小。RhZ紅軟基地
Data type:系統(tǒng)給出的構(gòu)建評價(jià)函數(shù)的數(shù)據(jù)類型:RhZ紅軟基地
  1)  Wavefront:波像差(像差小于2個(gè)波長的系統(tǒng))RhZ紅軟基地
  2)  Spot Radius(彌散圓半徑)(像差大于2個(gè)波長的系統(tǒng))RhZ紅軟基地
   3)Spot X(x方向彌散圓的大小)RhZ紅軟基地
   4)Spot Y(y方向彌散圓的大。RhZ紅軟基地
   5)Spot X and Y(x和y方向彌散圓的大小)RhZ紅軟基地
Default Merit functionsRhZ紅軟基地
Reference point:缺省優(yōu)化時(shí)RMS和PTV的參考點(diǎn)。RhZ紅軟基地
   1)Centroid (質(zhì)心):常用。特別是數(shù)據(jù)類型為波像差時(shí);當(dāng)出現(xiàn)彗差時(shí),用質(zhì)心作參考點(diǎn)更有意義,因?yàn)殄绮钍瓜竦馁|(zhì)心偏移主光線。RhZ紅軟基地
   2)Chief Ray(主波長的主光線);RhZ紅軟基地
   3)Mean(平均值):只能用于數(shù)據(jù)類型是波像差的情況;RhZ紅軟基地
Rings and ArmsRhZ紅軟基地
對光學(xué)設(shè)計(jì),積分是在入瞳上的。RhZ紅軟基地
GQ 算法需要指定 “Rings”和“Arms”的數(shù)目。RhZ紅軟基地
“Rings”指定每個(gè)視場和波長追跡多少光線;對旋轉(zhuǎn)對稱系統(tǒng)和非旋轉(zhuǎn)對稱系統(tǒng),光線的數(shù)量不同。RhZ紅軟基地
 “Arms”指定多少radial arms。指定在pupil中追跡的光線的radial arms 數(shù)目。RhZ紅軟基地
對大多數(shù)光學(xué)設(shè)計(jì),3rings足夠了;對非球面用4個(gè)rings。RhZ紅軟基地
缺省值,追跡6個(gè)等間隔的(in angle) arms (對旋轉(zhuǎn)對稱系統(tǒng)追跡3個(gè))?梢愿臑8,10,12。但對大多數(shù)的光學(xué)系統(tǒng),6個(gè)足夠了。(因?yàn)閜upil aberration對角度變化很慢)。RhZ紅軟基地
Rings and ArmsRhZ紅軟基地
這里是缺省的3 rings ,6arms的pupil sampling。對LR對稱系統(tǒng),只追跡一半的pupil,對園形對稱系統(tǒng),只追跡一個(gè)arm。RhZ紅軟基地
GridsRhZ紅軟基地
 “Grid“只能用于RA 算法。其值決定所用的光線的數(shù)目?梢允 4x4 (16 rays per field per wavelength), 6x6 (36 rays per field per wavelength)等; RhZ紅軟基地
如果光線跑到入瞳外面去了,則這個(gè)grid中的光線自動(dòng)略去,所以用的光線的實(shí)際數(shù)目要比grid size中的少 ;RhZ紅軟基地
應(yīng)用時(shí),選擇大的grid density,然后選擇“Delete Vignetted”(merit function中的所有光線都會(huì)通過系統(tǒng)追跡)比較好。因?yàn)檫@樣光線可以充滿pupil,會(huì)刪除漸暈操作數(shù)。光線的數(shù)目可以精確反映系統(tǒng)的孔徑。RhZ紅軟基地
Boundary valueRhZ紅軟基地
Thickness Boundary value:RhZ紅軟基地
1)正透鏡邊緣厚度;2)負(fù)透鏡中心厚度;3)空氣間隔RhZ紅軟基地
Assume Axial Symmetry:可以減少追跡的光線數(shù)目,加速優(yōu)化過程,但不降低精度;RhZ紅軟基地
Relative X Weight:另外增加一個(gè)像差的X分量權(quán)重,象光譜儀中,要用到狹縫像時(shí),可以用這個(gè)進(jìn)行控制;RhZ紅軟基地
Overall Weight:一般設(shè)置為1。RhZ紅軟基地
Ignore Lateral Color:對不同的波長按不同的參考點(diǎn)計(jì)算。用于按波長來分光分色系統(tǒng)設(shè)計(jì)中,如棱鏡或者光譜儀等。RhZ紅軟基地
WeightRhZ紅軟基地
操作數(shù)的權(quán)重:絕大部分為正。RhZ紅軟基地
1)<0,相當(dāng)于權(quán)重為無窮大;RhZ紅軟基地
2)=0,不考慮這個(gè)操作數(shù);RhZ紅軟基地
3)>0,使MF最小。RhZ紅軟基地
Default Merit functions的不足RhZ紅軟基地
如果field 、 wavelength values 、 weights改變了,則必須重新構(gòu)建 default merit function.RhZ紅軟基地
如果用RA 算法,如果在優(yōu)化過程中漸暈有一點(diǎn)變化,也需要重新構(gòu)建 default merit function.RhZ紅軟基地
OperandsRhZ紅軟基地
 ZEMAX提供了200多種操作數(shù)(用4個(gè)大寫字母縮寫組成),如EFFL,可以控制包括系統(tǒng)參數(shù)、像差、MTF、圓內(nèi)能量集中度、光線約束、邊界約束條件、玻璃材料的范圍等。RhZ紅軟基地
Defining complex operandsRhZ紅軟基地
ZEMAX缺省的MF不能滿足用戶需要時(shí),用戶可以自己構(gòu)建評價(jià)函數(shù),有兩種方法:RhZ紅軟基地
對缺省的merit function進(jìn)行重新定義;RhZ紅軟基地
用operands手動(dòng)編輯merit function,RhZ紅軟基地
用 MTF操作數(shù)優(yōu)化MTFRhZ紅軟基地
 MTF操作數(shù)能夠直接優(yōu)化MTF的值 ,這個(gè)功能很強(qiáng)。但使用時(shí)需要注意:RhZ紅軟基地
對不接近diffraction limit的系統(tǒng)(波像差大于2-5個(gè)波長),用 geometric等效的 MTF operands: GMTT, GMTS和 GMTA. RhZ紅軟基地
如果sampling太低,則MTF的返回值為0。RhZ紅軟基地
初始系統(tǒng)為平行平板時(shí),不能得到精確的MTF。RhZ紅軟基地
用MTF操作數(shù)時(shí),int 1為采樣密度;int 2表示波長;Hx為視場點(diǎn)的號;Hy為空間頻率(cycle/mm),如果超過截止頻率,則返回值為0。RhZ紅軟基地
對zoom和multi-configuration lenses的優(yōu)化RhZ紅軟基地
這種情況的優(yōu)化與一般的single-configuration lenses的優(yōu)化是一樣的。RhZ紅軟基地
在優(yōu)化時(shí),所有的結(jié)構(gòu)會(huì)一起優(yōu)化。RhZ紅軟基地
Optimization使用建議RhZ紅軟基地
在設(shè)計(jì)的初期,優(yōu)化時(shí)不需要追跡所有視場和波長的光線。這可以節(jié)省計(jì)算時(shí)間。權(quán)重設(shè)置為0的視場或波長不進(jìn)行追跡。RhZ紅軟基地
使用視場點(diǎn)平衡RhZ紅軟基地
用solve代替variables+constraintsRhZ紅軟基地
盡可能用缺省優(yōu)化函數(shù)RhZ紅軟基地
使用邊界條件控制操作數(shù)RhZ紅軟基地
使用對稱性可以只用Y視場RhZ紅軟基地
嘗試交換Merit functions:在spot radius和wavefront之間交換一下,可能會(huì)使其起始點(diǎn)發(fā)生一些改變RhZ紅軟基地
查看無用的變量RhZ紅軟基地
要搞清楚哪些量在變RhZ紅軟基地
用Hammer優(yōu)化RhZ紅軟基地
使用視場點(diǎn)平衡RhZ紅軟基地
選擇適當(dāng)?shù)囊晥鳇c(diǎn)數(shù)目,使視場劃分為等面積的園環(huán)。RhZ紅軟基地
對比較小的視場,就用0,1二個(gè)視場;RhZ紅軟基地
對中等視場(小于20度),用0,0.7和1三個(gè)視場;RhZ紅軟基地
對大的視場,用0,0.577, 0.816和1四個(gè)視場。RhZ紅軟基地
使用solveRhZ紅軟基地
 盡量用solve的功能。例如:有二種方法去控制邊界條件:RhZ紅軟基地
 1)使所有的量都為變量,然后在merit function中加入操作數(shù);RhZ紅軟基地
 2)去掉一個(gè)沒用的變量,用solve代替。RhZ紅軟基地
例如:RhZ紅軟基地
在curvature上用MRA或F/# solve控制F/#或EFL;RhZ紅軟基地
用thickness上MRH solve控制焦點(diǎn)位置;RhZ紅軟基地
用Pick-Up solve使不同面的對應(yīng)量之間保持聯(lián)系;RhZ紅軟基地
用Position solve控制長度。RhZ紅軟基地
盡可能用缺省優(yōu)化函數(shù)RhZ紅軟基地
ZEMAX的default merit function很好用。RhZ紅軟基地
對瞳為園形(或者是考慮漸暈因子的橢園形)的系統(tǒng),用GQ算法;RhZ紅軟基地
如果光學(xué)系統(tǒng)的接近衍射極限,則用RMS Wavefront(PTV OPD<2波長);否則用RMS Spot Radius;RhZ紅軟基地
用Centroid作為參考點(diǎn)比用Chief ray要好一些;通?梢杂貌煌膬(yōu)化函數(shù)進(jìn)行優(yōu)化,再看看哪一個(gè)設(shè)計(jì)結(jié)果更好。RhZ紅軟基地
要知道哪些量在變化RhZ紅軟基地
如果不知道哪里有問題,就無法去解決它。RhZ紅軟基地
了解像差和系統(tǒng)的聯(lián)系,及對系統(tǒng)的影響;RhZ紅軟基地
看Ray fan圖最重要;RhZ紅軟基地
有些圖,如MTF和encircled energy告訴你系統(tǒng)的好壞,但不能告訴你哪些變化可以使系統(tǒng)更好;RhZ紅軟基地
一旦知道了需要確定哪些量,就要用相應(yīng)的工具去優(yōu)化:RhZ紅軟基地
如果要校正球差,可以在pupil面附近增加asphere,binary optic,gradient index, 或element;RhZ紅軟基地
如果要校正視場像差,可以考慮移動(dòng)光欄,或者上面的方法;RhZ紅軟基地
如果要校正色差,用新玻璃;RhZ紅軟基地
如果要校正場曲,Petzval, F-theta,也要換玻璃。RhZ紅軟基地
用比較好的初始結(jié)構(gòu)RhZ紅軟基地
一般來說,新的設(shè)計(jì)都是基于原來的已經(jīng)有的結(jié)構(gòu)的,所以采用合適的初始結(jié)構(gòu)很重要。RhZ紅軟基地
有一些好的光學(xué)設(shè)計(jì)的資料:RhZ紅軟基地
書籍:1)Milt Laikin:<Lens design>;2)Warren Smith:<Modern Lens Design>RhZ紅軟基地
軟件數(shù)據(jù)庫:1)ZEBASE:500多個(gè)設(shè)計(jì),有些來自Laikin的書上;RhZ紅軟基地
 2)LensVIEW:大約60000個(gè)光學(xué)設(shè)計(jì)專利。RhZ紅軟基地
這些設(shè)計(jì)是ZEMAX的形式或者可以直接供ZEMAX讀取的文件格式。RhZ紅軟基地
TolerancingRhZ紅軟基地
Tolerancing概述RhZ紅軟基地
一個(gè)好的設(shè)計(jì)是要求能夠?qū)嶋H制造出來的。RhZ紅軟基地
設(shè)計(jì)好的光學(xué)系統(tǒng)需要進(jìn)行公差分析才算真正完成。需要在制造誤差的范圍之內(nèi)能夠滿足要求;RhZ紅軟基地
一個(gè)好的設(shè)計(jì)沒必要完全和設(shè)計(jì)要求一致,應(yīng)該是能夠制造出來,并盡量滿足設(shè)計(jì)要求。RhZ紅軟基地
公差分析是將各種擾動(dòng)或像差引入到光學(xué)系統(tǒng)中去,看系統(tǒng)在實(shí)際制造各種誤差范圍內(nèi)的效果。也就是在能滿足設(shè)計(jì)要求的情況下,系統(tǒng)中各個(gè)量允許的最大偏差是多少。RhZ紅軟基地
誤差來源RhZ紅軟基地
有很多方面需要考慮:RhZ紅軟基地
Errors in fabricationRhZ紅軟基地
Errors in materialsRhZ紅軟基地
Errors in assemblyRhZ紅軟基地
Errors due to environmentRhZ紅軟基地
Residual design errorsRhZ紅軟基地
Fabrication ErrorsRhZ紅軟基地
制造方面的誤差包括:RhZ紅軟基地
曲率半徑有誤差(radius of curvature)RhZ紅軟基地
厚度有誤差(element thickness)RhZ紅軟基地
面形誤差(surface shape)RhZ紅軟基地
曲率中心與機(jī)械中心有偏差(center offset)RhZ紅軟基地
二次項(xiàng)或其它非球面項(xiàng)系數(shù)誤差RhZ紅軟基地
Material ErrorsRhZ紅軟基地
材料誤差包括:RhZ紅軟基地
折射率的精度誤差RhZ紅軟基地
折射率均勻性誤差(homogeneity)RhZ紅軟基地
折射率分布誤差(distribution)RhZ紅軟基地
Abbe 數(shù)(dispersion)RhZ紅軟基地
Assembly ErrorsRhZ紅軟基地
裝配誤差包括(Element error):RhZ紅軟基地
元件對機(jī)械軸(X,Y)的偏差RhZ紅軟基地
元件在Z軸上的位置有偏差RhZ紅軟基地
元件的排列的偏差RhZ紅軟基地
元件對光軸傾斜的偏差RhZ紅軟基地
Environment ErrorsRhZ紅軟基地
環(huán)境方面的包括溫度,濕度,氣壓:RhZ紅軟基地
光學(xué)和機(jī)械材料的熱脹冷縮RhZ紅軟基地
濕度對折射率的影響RhZ紅軟基地
壓強(qiáng)和濕度對折射率的影響RhZ紅軟基地
系統(tǒng)受振動(dòng)的影響RhZ紅軟基地
機(jī)械方面的應(yīng)力RhZ紅軟基地
Design ErrorRhZ紅軟基地
一般來說,光學(xué)系統(tǒng)都有剩余誤差(即MF0)。RhZ紅軟基地
設(shè)計(jì)誤差一般因系統(tǒng)的視場而不同RhZ紅軟基地
設(shè)計(jì)結(jié)果必須超過設(shè)計(jì)要求,這樣才能在公差的影響范圍內(nèi),制造出來的系統(tǒng)能夠滿足使用要求。RhZ紅軟基地
Error BudgetRhZ紅軟基地
 公差預(yù)算主要是考慮所有可能誤差因素對系統(tǒng)性能的影響?梢宰屧O(shè)計(jì)者在一定的限制范圍內(nèi)預(yù)估裝配后的鏡頭的性能。RhZ紅軟基地
 要建立公差預(yù)算,設(shè)計(jì)者必須:RhZ紅軟基地
選擇合適的性能指標(biāo)(MF)RhZ紅軟基地
確定可接受的最小公差水平RhZ紅軟基地
計(jì)算所有可能的公差影響,包括單個(gè)組件、多個(gè)組件和裝配等RhZ紅軟基地
指定所有公差項(xiàng)的容限。即在設(shè)計(jì)、制造、裝配和操作中,每一步引入的公差的最大值。RhZ紅軟基地
公差范圍RhZ紅軟基地
Operand                  Commercial      Precision       High PrecisionRhZ紅軟基地
Wavefront error       0.25 RMS      0.1 RMS     <0.07 RMSRhZ紅軟基地
                                   2   P-V         0.5   P-V     <0.25   P-VRhZ紅軟基地
Thickness                  0.1mm            0.05mm          0.005mmRhZ紅軟基地
Radius                       0.5%               0.1%               0.02%RhZ紅軟基地
Index                         0.001              0.0002            0.00001RhZ紅軟基地
Surface Decenter      0.1mm            0.01mm          0.001mmRhZ紅軟基地
Surface Tilt               1 arc min        30 arc sec       3 arc secRhZ紅軟基地
Sphericity                 2 fringes         0.5 fringes       0.1 fringesRhZ紅軟基地
Irregularity               1 fringe           0.25 fringe      < 0.1 fringeRhZ紅軟基地
Aspherics                  1%                  0.5%               0.1%RhZ紅軟基地
Element Tilt             5 arc min         3 arc min        1 arc minRhZ紅軟基地
Element Decenter    0.254mm         0.0254mm       0.005mmRhZ紅軟基地
Basic procedureRhZ紅軟基地
對鏡頭進(jìn)行公差分析的基本步聚如下:RhZ紅軟基地
1) 定義適當(dāng)?shù)墓。一般最好從default tolerance開始,可以在Tolerance Data Editor中定義和修改。RhZ紅軟基地
2)修改default tolerances or add new ones,以適合系統(tǒng)要求RhZ紅軟基地
3) 增加compensators,設(shè)置compensators允許的范圍。 缺省的為后節(jié)距,其它的還有image plane tilt。對compensators的數(shù)量沒有限制。RhZ紅軟基地
4) 選擇合適的標(biāo)準(zhǔn),有RMS spot radius, wavefront error, MTF, or boresight error等。用自定義merit function還可以定義更復(fù)雜的標(biāo)準(zhǔn)或全面的標(biāo)準(zhǔn)。RhZ紅軟基地
Basic procedureRhZ紅軟基地
5) 選擇希望的模式, sensitivity or inverse sensitivity。RhZ紅軟基地
6) 進(jìn)行公差分析。RhZ紅軟基地
7) 查看公差分析數(shù)據(jù),考慮公差預(yù)算,如果需要,還可以再次進(jìn)行分析。RhZ紅軟基地
三種計(jì)算和分析方法RhZ紅軟基地
Sensitivity Analysis:給定公差,計(jì)算出各評價(jià)標(biāo)準(zhǔn)的變化。也可以單獨(dú)對各個(gè)視場和結(jié)構(gòu)進(jìn)行計(jì)算。RhZ紅軟基地
Inverse Sensitivity:給定允許的評價(jià)標(biāo)準(zhǔn)變化范圍,計(jì)算出各公差量的容限。 標(biāo)準(zhǔn)可以為所有視場和結(jié)構(gòu)的平均值,或每個(gè)結(jié)構(gòu)每個(gè)視場上的值RhZ紅軟基地
Monte Carlo :Monte Carlo仿真是評估公差的總體影響。仿真過程中,它會(huì)產(chǎn)生一系列的隨機(jī)lens,它們滿足指定的公差,然后再按標(biāo)準(zhǔn)評估?梢杂镁鶆蚍植迹龖B(tài)分布和拋物線分布(normal, uniform, parabolic, or user defined) 的統(tǒng)計(jì)方法產(chǎn)生任何數(shù)量的設(shè)計(jì)。RhZ紅軟基地
對每一個(gè)操作數(shù),調(diào)整compensator的值,使MF最小。RhZ紅軟基地
Defining default tolerancesRhZ紅軟基地
Editors>>Tolerance Data Editor>>Tools>> Default TolerancesRhZ紅軟基地
Surface tolerancesRhZ紅軟基地
Radius: 單位為lens units 或 fringes of power( at the test wavelength) (由TWAV定義)。它只適用于有optical power的面,不包括二邊折射率相同的dummy surfaces。如果面為plano, 則缺省的公差單位只能為fringes。RhZ紅軟基地
Thickness:假定厚度變量只影響surface 和與element接觸的面。RhZ紅軟基地
Decenter X/Y:單位為lens units,對單個(gè)面計(jì)算。RhZ紅軟基地
S + A Irreg:對每個(gè)標(biāo)準(zhǔn)類型面指定球差和像散不均勻性。RhZ紅軟基地
Zern Irreg:對每個(gè)標(biāo)準(zhǔn)類型面指定Zernike不規(guī)則性。 RhZ紅軟基地
Index: 用TIND表示折射率的變化。 RhZ紅軟基地
Abbe: 用TABB表示 Abbe number的變化。RhZ紅軟基地
Element tolerancesRhZ紅軟基地
Decenter X/Y:對lens group的公差分析,單位為lens units。RhZ紅軟基地
Tilt X/Y: 對lens group和surface,單位為度。 用TETX 和TETY。RhZ紅軟基地
TOLERANCE OPERANDSRhZ紅軟基地
全部由4個(gè)字母組成,如: Tolerance Radius 用TRAD。 每個(gè)公差操作數(shù)都有一個(gè)最小和最大值,各個(gè)量的公差容限。還可以通過comment對它進(jìn)行注釋。RhZ紅軟基地
SURFACE TOLERANCE OPERANDSRhZ紅軟基地
公差分析過程中,需要考慮下列參數(shù):RhZ紅軟基地
TRAD,TCUR,TFRN:關(guān)于surface power的公差RhZ紅軟基地
TTHI:關(guān)于thickness或spacing的公差RhZ紅軟基地
TCON:關(guān)于conic的公差RhZ紅軟基地
TSDX,TSDY:關(guān)于Surface decenters(lens units)的公差RhZ紅軟基地
TSTX,TSTY:關(guān)于surface tilts(degrees)的公差RhZ紅軟基地
TIRX,TIRY:關(guān)于Standard surface tilt (TIR)(lens units)的公差RhZ紅軟基地
TIRR:關(guān)于Standard surface irregularity(wave)的公差RhZ紅軟基地
TEXI,TEZI:關(guān)于surface irregularity(用Zernikes多項(xiàng)式)的公差RhZ紅軟基地
TIND,TABB:關(guān)于index, Abbe number的公差RhZ紅軟基地
TPAR,TEDV:關(guān)于paramters或extra data value的公差RhZ紅軟基地
TCMU:關(guān)于coating multipler的公差RhZ紅軟基地
TOLERANCE OPERANDSRhZ紅軟基地
Element ToleranceRhZ紅軟基地
TEDX,TEDY:關(guān)于element decenters的公差。RhZ紅軟基地
TETX,TETY,TETZ:關(guān)于element tilts的公差。RhZ紅軟基地
User Defined ToleranceRhZ紅軟基地
TUDX,TUDY,TUTX,TUTY,TUTZ:自定義coord breaksRhZ紅軟基地
Non-Sequential Component TolerancesRhZ紅軟基地
TNPS:關(guān)于NSC object position的公差。RhZ紅軟基地
TNPA:關(guān)于NSC object parameter的公差。RhZ紅軟基地
Multi-Configuration Value TolerancesRhZ紅軟基地
TMCO:關(guān)于multi-configuration editor value的公差。RhZ紅軟基地
Defining compensatorsRhZ紅軟基地
將像面定位到新的最佳焦點(diǎn)上。它是一個(gè)設(shè)計(jì)參數(shù),用來抵消其他參數(shù)中的誤差。RhZ紅軟基地
用compensator可以大大地放松公差的要求,缺省時(shí)選擇Use Focus Comp,用后節(jié)距你為補(bǔ)償。RhZ紅軟基地
可以自定義很多類型:任何面的thicknesses (most commonly used), curvature, conic constants, any parameter or extra data value,也可以是 Multi-configuration operands。RhZ紅軟基地
一般來說,用的compensators多,則可以使公差更松,但會(huì)使系統(tǒng)復(fù)雜。 RhZ紅軟基地
所有compensators用COMP, CPAR, CEDV, CMCO來定義,需要用宏ZEMAX語言編程(tolerance script)。RhZ紅軟基地
Tolerance control operandsRhZ紅軟基地
    公差控制操作數(shù)用來定義compensators,保存中間結(jié)果,定義statistical properties和為fringe tolerances 定義test wavelength。RhZ紅軟基地
CEDV:將extra data value定義為compensatorsRhZ紅軟基地
CMCO:將multi-configuration operand value定義compensatorsRhZ紅軟基地
COMP:設(shè)置compensator, Code=0,1,2分別表示 thickness, curvature,conicRhZ紅軟基地
CPAR:設(shè)置parameter 為compensatorRhZ紅軟基地
SAVE:保存文件來評估前一行中的toleranceRhZ紅軟基地
SEED:為Monte Carlo分析產(chǎn)生隨機(jī)數(shù)RhZ紅軟基地
STAT:為Monte Carlo分析選擇分布類型RhZ紅軟基地
TWAV:設(shè)置試驗(yàn)波長。RhZ紅軟基地
進(jìn)行tolerance analysisRhZ紅軟基地
Tools>>TolerancingRhZ紅軟基地
ModeRhZ紅軟基地
Sensitivity:計(jì)算公差極端情況下評價(jià)標(biāo)準(zhǔn)的改變量 RhZ紅軟基地
Inverse Limit:計(jì)算評價(jià)標(biāo)準(zhǔn)變化量為指定值時(shí)的公差。標(biāo)準(zhǔn)的變化值由Limit定義。 RhZ紅軟基地
Inverse Increment:計(jì)算標(biāo)準(zhǔn)的變化量為由Increment 定義值 時(shí)的公差。 RhZ紅軟基地
Skip Sensitivity:進(jìn)行 Monte Carlo 分析。RhZ紅軟基地
Limit和IncrementRhZ紅軟基地
Limit: 用Inverse Limit時(shí),用來定義評價(jià)標(biāo)準(zhǔn)的界限。例如,標(biāo)準(zhǔn)是 RMS Spot Radius, 系統(tǒng)標(biāo)稱的RMS是0.035,如果Limit設(shè)置為0.050,則ZEMAX計(jì)算RMS=0.050時(shí)每一個(gè)公差的最大和最小值。這個(gè)標(biāo)稱值可以點(diǎn)Limit邊上的“?”號計(jì)算出來。RhZ紅軟基地
Increment: 用Inverse Increment時(shí),用來定義評價(jià)標(biāo)準(zhǔn)的增量。 Increment必須為正,表示系統(tǒng)性能下降。RhZ紅軟基地
# Monte Carlo Runs:定義運(yùn)算的周期數(shù)。RhZ紅軟基地
CriteriaRhZ紅軟基地
評價(jià)標(biāo)準(zhǔn)有6種情況:RhZ紅軟基地
RMS spot size (radius, x或y):適于不接近衍射極限的系統(tǒng)(最快)。 RhZ紅軟基地
RMS wavefront: 適于接近衍射極限的系統(tǒng)(很快)。RhZ紅軟基地
Merit Function: 適合于user-defined tolerancing criteria。RhZ紅軟基地
Geometric or Diffraction MTF (average, tangential, or sagittal):適合于需要指定MTF的系統(tǒng)(計(jì)算最慢)。average表示tangential和sagittal的平均值。如果系統(tǒng)的OPD太大,則無法計(jì)算衍射MTF,所以有時(shí)候會(huì)有問題。RhZ紅軟基地
Boresight error:瞄準(zhǔn)誤差是軸上視場主光線的徑向角偏差。用 BSER operand表示。 只用于radially symmetric系統(tǒng)。User Script:macro-like command file。RhZ紅軟基地
TolerancingRhZ紅軟基地
MTF Frequency:MTF的頻率。單位line/mm。RhZ紅軟基地
Sampling:設(shè)置追跡的光線的數(shù)目。RhZ紅軟基地
Config:multi-configuration lenses公差分析RhZ紅軟基地
Comp: 控制如何評估compensators。“Optimize All” 用優(yōu)化功能確定所有定義的compensators的最佳值。“Paraxial Focus”只用于近軸后節(jié)距為compensator的情況中。RhZ紅軟基地
# Opt Cycles: 確定優(yōu)化的周期數(shù)。只有Comp中設(shè)置為 “Optimize All”才有用。RhZ紅軟基地
FieldsRhZ紅軟基地
在構(gòu)建公差分析的merit function時(shí),有3種不同的視場設(shè)置:RhZ紅軟基地
Y-Symmetric: 缺省旋轉(zhuǎn)對稱系統(tǒng)。先計(jì)算最大視場,然后定義Y方向上的+1.0, +0.7,0.0, -0.7, 和-1.0視場。 RhZ紅軟基地
XY-Symmetric: 9個(gè)視場:5個(gè)Y視場再加4個(gè)X視場: -1.0, -0.7, +0.7,和+1.0。 RhZ紅軟基地
User Defined:自定義的所有視場。有vignetting factors,分析多重結(jié)構(gòu)或使用tolerance scripts,非旋轉(zhuǎn)對稱系統(tǒng),自定義的視場的權(quán)重比較復(fù)雜時(shí),選擇這一項(xiàng)。RhZ紅軟基地
其 它RhZ紅軟基地
Separate Fields/Configs:單獨(dú)計(jì)算所有結(jié)構(gòu)的所有視場的評價(jià)標(biāo)準(zhǔn)。否則計(jì)算它們的平均值RhZ紅軟基地
Script: User script文件名。RhZ紅軟基地
Force Ray Aiming On:計(jì)算更精確,但更慢。RhZ紅軟基地
Show Compensators: 打印compensator values。RhZ紅軟基地
Statistics: 在Monte Carlo 分析時(shí),選擇 Gaussian “normal”分布,“uniform”, or “parabolic” 分布RhZ紅軟基地
SummaryRhZ紅軟基地
公差分析程序非常靈活,功能強(qiáng)大。在計(jì)算公差時(shí),ZEMAX不用任何的近似、外推或估算。因此對常規(guī)系統(tǒng)和復(fù)雜系統(tǒng)都可以給出很好的結(jié)果。RhZ紅軟基地
因?yàn)楣罘治鍪莻(gè)復(fù)雜的過程,所以ZEMAX也不敢保證完全正確,所以設(shè)計(jì)者有必要 對結(jié)果進(jìn)行校驗(yàn)。RhZ紅軟基地
公差分析練習(xí)RhZ紅軟基地
打開ZEMAX中的cooke.zmx鏡頭,分別用二種模式分析其公差。RhZ紅軟基地
(1)用Sensitivity模式分析各個(gè)曲率半徑公差為0.2mm時(shí), RMS Spot Radius的變化范圍;RhZ紅軟基地
(2)用Inverse limit模式分析RMS Spot Radius為8時(shí),各個(gè)參數(shù)的公差容限值。RhZ紅軟基地
COORDINATE BREAKSRhZ紅軟基地
Local vs. Global coordinatesRhZ紅軟基地
在ZEMAX的Lens Data Editor中,即Sequential中時(shí),各個(gè)面的數(shù)據(jù):RhZ紅軟基地
只用Local coordinates;RhZ紅軟基地
每個(gè)面的位置都是通過沿z方向的距離(即thickness)定義的;RhZ紅軟基地
盡管ZEMAX能夠計(jì)算任何面對其它面的global coordinates,但所有的面都是用local coordinate定義的;RhZ紅軟基地
在Non-sequential Editor中:RhZ紅軟基地
所有的objects處在global coordinate坐標(biāo)系中。RhZ紅軟基地
什么是COORDINATE BREAKSRhZ紅軟基地
COORDINATE BREAKS(CB)是一個(gè)特殊的虛擬面,用它定義一個(gè)新的坐標(biāo)系,替代現(xiàn)有坐標(biāo)系,定義新的光軸。RhZ紅軟基地
CB有6個(gè)自由度:RhZ紅軟基地
(1)Decenter XRhZ紅軟基地
(2)Decenter YRhZ紅軟基地
(3)Tilt about XRhZ紅軟基地
(4)Tilt about YRhZ紅軟基地
(5)Tilt about ZRhZ紅軟基地
(6)The order flagRhZ紅軟基地
  所有的Decenter和Tilt是按上面的順序從上到下進(jìn)行的,如果flag是非0數(shù),則順序相反。RhZ紅軟基地
DecenterRhZ紅軟基地
打開file :cooke.zmx,假定要把最后一個(gè)透鏡往Y方向移2mm。RhZ紅軟基地
做法如下:RhZ紅軟基地
(1)在surface 5前面插入一個(gè)面,其surface type 為coord break;RhZ紅軟基地
(2)在decenter Y中輸入2;RhZ紅軟基地
(3)在surface 7前面插入一個(gè)面,其surface type 為coord break;RhZ紅軟基地
(4)在decenter Y中輸入-2。RhZ紅軟基地
注:第2個(gè)coord break是將偏移的透鏡后面的系統(tǒng)回歸到原位。RhZ紅軟基地
Before and After decenterRhZ紅軟基地
下面是偏移前后的系統(tǒng)3D layout圖。RhZ紅軟基地
TiltsRhZ紅軟基地
打開file :cooke.zmx,假定要把最后一個(gè)鏡片傾斜。RhZ紅軟基地
做法如下:RhZ紅軟基地
(1)在上個(gè)例子的基礎(chǔ)上,先將decenter全部設(shè)置為0;RhZ紅軟基地
(2)在surface 5上將tilt about x設(shè)置為+10(單位為度);RhZ紅軟基地
(3)在surface 8上將tilt about x設(shè)置為pick up(from surface:5;scale factor:-1);使像面保持直立RhZ紅軟基地
(4)在surface 8上將thickness設(shè)置為marginal ray height以保持像面在焦面上。RhZ紅軟基地
After TiltRhZ紅軟基地
盡管鏡片傾斜,但像面保持不動(dòng)。RhZ紅軟基地
Tilts and DecentersRhZ紅軟基地
上面的例子只是單純的Tilts或Decenters。如果同時(shí)都存在就會(huì)很復(fù)雜,還需要考慮它們的順序。RhZ紅軟基地
CB在使用時(shí)容易搞糊涂,所以在使用以前應(yīng)該仔細(xì)規(guī)劃。使用好CB,可以使復(fù)雜的設(shè)計(jì)變得簡單。RhZ紅軟基地
使用時(shí)需要注意幾點(diǎn):RhZ紅軟基地
(1)在使用多重CB時(shí),要注意嵌套,RhZ紅軟基地
(2)成對的CB盡量用pick up,這樣可以減少輸入和可能的錯(cuò)誤,RhZ紅軟基地
(3)如果同時(shí)有Tilt和Decenter,可以用order flag控制順序,RhZ紅軟基地
  (4)   如果因?yàn)門ilt使厚度的方向發(fā)生改變時(shí),要注意符號的變化。RhZ紅軟基地
Multi-ConfigurationRhZ紅軟基地
IntroductionRhZ紅軟基地
什么是Multi-configurations系統(tǒng)?是用1重以上的結(jié)構(gòu)建模的系統(tǒng),通過多重結(jié)構(gòu)給同一個(gè)參數(shù)不同的值。RhZ紅軟基地
用途:RhZ紅軟基地
(1)設(shè)計(jì)zoom lenses:元件的位置不同;RhZ紅軟基地
(2)Athermalized lenses:溫度和壓強(qiáng)不同;RhZ紅軟基地
(3)多光路系統(tǒng):透鏡陣列、干涉儀、分光鏡等;RhZ紅軟基地
(4)掃描系統(tǒng):polygon scanner;RhZ紅軟基地
(5)switchable component系統(tǒng):非連續(xù)變焦系統(tǒng)。RhZ紅軟基地
Multi-configurations的建立RhZ紅軟基地
先用常規(guī)的方法建立一個(gè)光學(xué)系統(tǒng)- basic configuration 。最好先建立最復(fù)雜的結(jié)構(gòu)。 RhZ紅軟基地
選擇Editors>>Multi-Configuration,出現(xiàn)MCE,再用MC操作數(shù)建立多重結(jié)構(gòu)。RhZ紅軟基地
Multi-Configuration EditorRhZ紅軟基地
Multi-configurations的優(yōu)化RhZ紅軟基地
(1)multi-configuration data的優(yōu)化和普通的優(yōu)化是一樣的。先用“Default Merit Function”建立優(yōu)化函數(shù),ZEMAX會(huì)自動(dòng)在各個(gè)結(jié)構(gòu)下面加入優(yōu)化函數(shù);在MCE中定義優(yōu)化操作數(shù)為變量。RhZ紅軟基地
(2)用CONF操作數(shù)定義;可以給不同的結(jié)構(gòu)定義不同的優(yōu)化函數(shù),但不同結(jié)構(gòu)的優(yōu)化函數(shù)必須分開放在CONF規(guī)定的結(jié)構(gòu)號碼下面;放置的方式有二種,它們的功能是一樣的。RhZ紅軟基地
multiple-configuration merit functionsRhZ紅軟基地
CONF 1RhZ紅軟基地
User operands for configuration 1...RhZ紅軟基地
Default operands for configuration 1...RhZ紅軟基地
CONF 2:RhZ紅軟基地
User operands for configuration 2...RhZ紅軟基地
Default operands for configuration 2...RhZ紅軟基地
CONF 3:RhZ紅軟基地
...etc.RhZ紅軟基地
multiple-configuration merit functionsRhZ紅軟基地
CONF 1RhZ紅軟基地
User operands for configuration 1...RhZ紅軟基地
CONF 2RhZ紅軟基地
User operands for configuration 2...RhZ紅軟基地
CONF 3RhZ紅軟基地
User operands for configuration 3...RhZ紅軟基地
etc...RhZ紅軟基地
DMFSRhZ紅軟基地
CONF 1RhZ紅軟基地
Default operands for configuration 1...RhZ紅軟基地
CONF 2RhZ紅軟基地
Default operands for configuration 3...RhZ紅軟基地
CONF 3RhZ紅軟基地
Default operands for configuration 3...RhZ紅軟基地
etc...RhZ紅軟基地
NoteRhZ紅軟基地
建立了缺省優(yōu)化函數(shù)以后,它就與DMFS操作數(shù)關(guān)聯(lián),自已輸入的操作數(shù)不會(huì)丟失。RhZ紅軟基地
如果在multiconfiguration中改變視場角、高度、權(quán)重或波長,則需要重建優(yōu)化函數(shù)。RhZ紅軟基地
練習(xí)RhZ紅軟基地
用multi-configuration的方法建立一個(gè)分光系統(tǒng)(Beam splitter)。用二重結(jié)構(gòu),分別建立二個(gè)光路。RhZ紅軟基地
目的:熟悉multi-configurationsRhZ紅軟基地
的使用和設(shè)置。RhZ紅軟基地
建立一個(gè)Beamsplitter,長寬高各RhZ紅軟基地
為20mm,光瞳為20mm,如圖所示。RhZ紅軟基地
設(shè)計(jì)步聚RhZ紅軟基地
(1)入瞳直徑為50,視場為0度,物在無窮遠(yuǎn)處,波長為可見光;RhZ紅軟基地
在LDE中先建立三個(gè)面,每個(gè)面之間的距離為50,半徑自定義為50,aperture type設(shè)置為矩形,長寬各為50;第一個(gè)面的材質(zhì)為Bk7,第二個(gè)面的材質(zhì)為MIRROR;RhZ紅軟基地
在MIRROR前面加一個(gè)Coord Break面形,使第二個(gè)面旋轉(zhuǎn)45度;再在它的后面加一個(gè)Coord Break面形,使后面的面轉(zhuǎn)再45度;RhZ紅軟基地
將Coord Break后面的距離數(shù)據(jù)改成負(fù)號,使后面的面處在正確的位置;RhZ紅軟基地
設(shè)計(jì)步聚RhZ紅軟基地
(2)打開Editors—Multi-Configuration,出現(xiàn)MCE窗口,增加一個(gè)Configuration,插入幾個(gè)operands;RhZ紅軟基地
(3)用par3控制surface 3和5的旋轉(zhuǎn)情況(旋轉(zhuǎn)角度由45度改為0度);用THIC控制surface 2,5和7的厚度(符號由負(fù)變?yōu)檎挥肎LSS將surface 4變?yōu)锽K7;RhZ紅軟基地
(4)打開3D Layout,按setting,讓二個(gè)結(jié)構(gòu)同時(shí)顯示出來,就可以得到所要的結(jié)果。RhZ紅軟基地
Non-SequentialRhZ紅軟基地
IntroductionRhZ紅軟基地
實(shí)際的透鏡,不但有前后面,還有邊沿部分。光線會(huì)在同一個(gè)面上反射、折射或散射,光線不再按LDE中的surface順序傳播,而是按實(shí)際順序傳播;RhZ紅軟基地
Non-sequential就是光線的追跡是按它打到各個(gè)面上的實(shí)際順序,而不是按LDE中放置的順序;RhZ紅軟基地
在non-sequential追跡中,光線可能會(huì)多次打到同一個(gè)物件上。 要求non-sequential追跡的物件有faceted objects, prisms, light pipes, lens arrays, reflectors, and Fresnel lenses等;RhZ紅軟基地
有些類型的分析,如stray或scattered light 效應(yīng),只能在完全non-sequential環(huán)境中進(jìn)行。RhZ紅軟基地
Non-sequential components(NSC)RhZ紅軟基地
用完全3D固體模型代替2D面,這些固體稱為 non-sequential components(NSC)。 NSC光線追跡支持下列功能:RhZ紅軟基地
定義和放置多個(gè)sources、objects and detectors,RhZ紅軟基地
使用實(shí)際的輻射度和光度單位,包括watts,lumens,lux,phot, footcandles等,RhZ紅軟基地
自動(dòng)確定ray-object相交的順序,RhZ紅軟基地
自動(dòng)探測reflection, refraction和 total internal reflection (TIR),RhZ紅軟基地
支持3D objects,包括diffractive optics,RhZ紅軟基地
支持偏振光追跡和薄膜,散射的統(tǒng)計(jì)模型,包括Lambertian,Gaussian和Abg。RhZ紅軟基地
Paraxial ray tracing with NSCRhZ紅軟基地
在NSC中,沒有近軸光線追跡。RhZ紅軟基地
當(dāng)近軸光線追跡到一個(gè)non-sequential surface時(shí),用等效的實(shí)際光線代替。因此,在NSC系統(tǒng)中,幾乎所有的近軸數(shù)據(jù),如焦距和F/#,都沒有意義。RhZ紅軟基地
 NSC ray tracing 的2種方法RhZ紅軟基地
NSC with ports:考慮的NSC group是sequential system一部分;RhZ紅軟基地
NSC without ports:考慮的NSC group包含所有objects;RhZ紅軟基地
2種方法中,定義和放置NSC group內(nèi)的objects的方法是一樣的,但具體分析和計(jì)算方法是不同的。其主要區(qū)別是光線發(fā)射和分析功能不同:RhZ紅軟基地
    (1)NSC with ports,所有光線從物面上定義的場點(diǎn)發(fā)出,然后追跡到NSC group的entry port,通過exit port離開NSC group,再經(jīng)過其它的sequential system.RhZ紅軟基地
    (2)NSC without ports,沒有上面的限制,可以在NSC group內(nèi)任意定義和放置光源。RhZ紅軟基地
NSC with portsRhZ紅軟基地
忽略sources和detectors,考慮entry和 exit ports;RhZ紅軟基地
例如:幾個(gè)傳統(tǒng)的鏡頭,后面是棱鏡或光管,這樣一個(gè)系統(tǒng)就要用NSC with port。RhZ紅軟基地
所有sequential 系統(tǒng)數(shù)據(jù),如視場和入瞳大小,決定進(jìn)入NSC group的光線的特性?梢赃M(jìn)行如ray fans, spot diagrams, 和 MTF的分析,進(jìn)行分析時(shí),只考慮通過port進(jìn)出NSC group的光線。RhZ紅軟基地
NSC without portsRhZ紅軟基地
考慮sources和detectors,忽略entry 和exit port。RhZ紅軟基地
系統(tǒng)里沒有sequential paths或部分sequential paths,如headlamp reflectors,complex light pipes或general illumination systems,這時(shí)候使用NSC without ports 。RhZ紅軟基地
通過將整個(gè)系統(tǒng)(如相機(jī)或望遠(yuǎn)鏡)放入一個(gè)non-sequential group中,進(jìn)行non-sequential光線追跡,還可以分析sequential systems 中的ghost,stray和scattered light的特性。RhZ紅軟基地
能提供的分析功能有:光線分布和detector記錄的能量。RhZ紅軟基地
NSC ray tracing with ports的步聚RhZ紅軟基地
1) 將一個(gè)Non-Sequential Components surface插入到Lens Data Editor,這個(gè)面就是NSC group的entry port。RhZ紅軟基地
2)Non-Sequential Components surface后面的參數(shù)定義NSC group的exit port的位置。RhZ紅軟基地
3) Objects的位置在Non-Sequential Components Editors中定義(相對于entry port)。RhZ紅軟基地
4) 從entry port進(jìn)入NSC group的光線不能分裂或散射。RhZ紅軟基地
Entry port的位置RhZ紅軟基地
The Non-Sequential Components surface可以是平面、非球面或二次曲面,它的位置一般是由LDE中前面的面決定的。 它是一組objects的entry port。RhZ紅軟基地
Exit port的位置RhZ紅軟基地
Non-Sequential Components surface的參數(shù)決定exit port 的位置:RhZ紅軟基地
(1)Draw Ports?:為0,不畫ports;為1,畫entry;為2,畫exit;為3,都畫。RhZ紅軟基地
(2) Exit Location X/Y/Z:exit port相對于entry port的坐標(biāo);RhZ紅軟基地
(3)Exit Tilt About X/Y/Z: exit port繞X/Y/Z軸的放置角度;RhZ紅軟基地
(4) Order:0(decenter x/y/z,rotate around global z/y/x);其它值(順序相反)。RhZ紅軟基地
(5)Reverse Rays:0:假定non-sequential group是折射透鏡;1:假定non-sequential group是反射鏡。RhZ紅軟基地
NSC ray tracing without ports的步聚RhZ紅軟基地
1)將光線追跡模式轉(zhuǎn)換為non-sequential; RhZ紅軟基地
2)將Object插入Non-Sequential Components editor中,一般是surface 1,但其在Lens Data Editor中的順序并不重要。建議只用objects。RhZ紅軟基地
2)忽略Non-Sequential Components surface的參數(shù);RhZ紅軟基地
3) Sources、objects和detectors在Non-Sequential Components editor中定義。RhZ紅軟基地
在NSC以外定義的參數(shù)有:波長、玻璃和鍍膜。RhZ紅軟基地
SourcesRhZ紅軟基地
    ZEMAX支持point, rectangular, elliptical,user defined,和其它光源模型。每個(gè)光源定義以下參數(shù):RhZ紅軟基地
# Layout Rays:在建立layout plots時(shí),定義有多少光線從光源隨機(jī)發(fā)出。RhZ紅軟基地
# Analysis Rays:在分析時(shí),定義從光源隨機(jī)發(fā)出的光線數(shù)。RhZ紅軟基地
Power (units):光源的總功率,其單位由system source units確定。RhZ紅軟基地
Wavenumber: 波數(shù)。0表示多色光;RhZ紅軟基地
注意:多個(gè)光源會(huì)迭加,產(chǎn)生多色光。光源可以放在任何位置。RhZ紅軟基地
Source TypeRhZ紅軟基地
(1)Source Diode:可以定義一個(gè)diode,一維diode陣列,或二維diode陣列。每個(gè)光源都有一個(gè)光強(qiáng)分布;RhZ紅軟基地
(2)Source Ellipse:橢圓發(fā)光面;RhZ紅軟基地
(3)Source Filament:細(xì)金屬絲環(huán)光源;RhZ紅軟基地
(4)Source File:用戶自定義光源;RhZ紅軟基地
(5)Source Point:點(diǎn)光源,錐形范圍內(nèi)發(fā)光;RhZ紅軟基地
(6)Source Ray: 沿指定的方向余弦發(fā)光的點(diǎn);RhZ紅軟基地
(7)Source Volume Cylinder:從內(nèi)部任一點(diǎn)隨機(jī)發(fā)光;RhZ紅軟基地
(8) Source Rectangle:矩形平面,從虛擬點(diǎn)光源發(fā)光;RhZ紅軟基地
Source TypeRhZ紅軟基地
(9)Source Tube:從表面發(fā)光;RhZ紅軟基地
(10)Source Volume Ellipse:從內(nèi)部任一點(diǎn)隨機(jī)發(fā)光;RhZ紅軟基地
(11) Source Volume Rectangle:從它部任一點(diǎn)隨機(jī)發(fā)光;RhZ紅軟基地
(12)Source DLL:用戶自定義光源。RhZ紅軟基地
• Radiant Imaging light source: Radiant Imaging 公司的光源資料庫。RhZ紅軟基地
DetectorsRhZ紅軟基地
有2種detectors:RhZ紅軟基地
(1)矩形平面或曲面形狀的專門探測器。 RhZ紅軟基地
(2)Object:如prism 或aspheric surface。要使objects為detector,在Object Properties>>Type中選擇“Object Is A Detector“。RhZ紅軟基地
Detectors 可以是absorbing, reflecting, transmissive或refractive。RhZ紅軟基地
NSC ObjectsRhZ紅軟基地
NSC object types包括ellipses, triangles, rectangles, spheres, cylinders和其它基本形狀。還有 arbitrary prisms, aspheric lenses, torics, toruses和其它復(fù)雜的形狀。RhZ紅軟基地
根據(jù)定義的材質(zhì),可以是reflective, refractive, and absorptive。RhZ紅軟基地
Objects可以以IGES, SAT或STEP這些CAD文件格式輸入到ZEMAX中。 要輸入一個(gè)object,將object type設(shè)置為“Imported“,并從下拉菜單中選擇文件名,或?qū)⑽募旁谧⑨寵凇N募仨毞旁赲OBJECTS目錄下。(但只能是solid)RhZ紅軟基地
Object propertiesRhZ紅軟基地
NSC Ray TraceRhZ紅軟基地
NSC Editors>>Detectors>>Ray Trace/Detector ControlRhZ紅軟基地
算法:Monte Carlo光線追跡,RhZ紅軟基地
Detector ViewerRhZ紅軟基地
NSC Editors>>Detectors>>Detector ViewerRhZ紅軟基地
Detector Viewer OptionsRhZ紅軟基地
Show Data TypeRhZ紅軟基地
Incoherent Irradiance:單位面積上的非相干功率(照度)。每個(gè)像素上的功率是所有光線的和,不考慮位相因素。 RhZ紅軟基地
Coherent Irradiance:單位面積上的非相干功率(照度) 。每個(gè)像素上的振幅是所有光線的復(fù)振幅之和。RhZ紅軟基地
Coherent Phase: 相干發(fā)光中的復(fù)振幅和的位相角。RhZ紅軟基地
Radiant Intensity: 單位立體角的功率(發(fā)光強(qiáng)度),它對應(yīng)入射到探測器的入射角。RhZ紅軟基地
Radiance (Position Space):單位立體角的功率(亮度),它對應(yīng)探測器上不同點(diǎn)的空間位置。RhZ紅軟基地
Radiance (Angle Space):單位立體角的功率(亮度),它對應(yīng)探測器上不同點(diǎn)的空間位置。RhZ紅軟基地
例1:Beam SplitterRhZ紅軟基地
C:\ZEMAX\Sample\Non-sequential\Ray splitting\Beam SplitterRhZ紅軟基地
第一步:File>>Non-sequential Mode,進(jìn)入Non-sequential 模式。RhZ紅軟基地
第二步:建立Sources、Objects和DetectorsRhZ紅軟基地
LDERhZ紅軟基地
3D LayoutRhZ紅軟基地
No Split raysRhZ紅軟基地
3D LayoutRhZ紅軟基地
Split rayRhZ紅軟基地
Ray TraceRhZ紅軟基地
Detector ViewerRhZ紅軟基地
不同Detector上的結(jié)果。RhZ紅軟基地
例2:Stray Light分析RhZ紅軟基地
一個(gè)反射式天文望遠(yuǎn)鏡的結(jié)構(gòu),如下圖。RhZ紅軟基地
LDERhZ紅軟基地
它所對應(yīng)的LDE數(shù)據(jù)為(C:\ZEMAX\Samples\Short Course\Sc-Stray1):RhZ紅軟基地
Stray Light 分析RhZ紅軟基地
定義LDE數(shù)據(jù)(C:\ZEMAX\Samples\Short Course\Sc-Stray2)。RhZ紅軟基地
NSC EditorsRhZ紅軟基地
為望遠(yuǎn)鏡加上外筒以后的雜光分析情況。RhZ紅軟基地
NSC EditorsRhZ紅軟基地
3D LayoutRhZ紅軟基地
顯示雜光以后的Layout。RhZ紅軟基地
GLASS CATALOGSRhZ紅軟基地
IntroductionRhZ紅軟基地
ZEMAX自帶很多玻璃庫。也允許建立自己的玻璃庫,對自建玻璃庫沒有任何限制。 RhZ紅軟基地
ZEMAX里面的玻璃折射率數(shù)據(jù)都是用色散公式和色散系數(shù)計(jì)算出來的。RhZ紅軟基地
可以拷貝或移動(dòng) glass catalog文件。每個(gè)玻璃庫有二個(gè)文件,擴(kuò)展名分別為.AGF和.BGF。只需要拷貝或移動(dòng).AGF文件。需要的時(shí)候,ZEMAX會(huì)自動(dòng)建立BGF文件。RhZ紅軟基地
Specifying glass catalogs to useRhZ紅軟基地
可以在System>>General中選定要用的玻璃庫目錄。如果沒有指定,在設(shè)計(jì)過程中ZEMAX會(huì)自動(dòng)從玻璃庫中去查找,并選定相應(yīng)的玻璃庫目錄。RhZ紅軟基地
Description of catalog dataRhZ紅軟基地
可以通過Tools>> GLASS CATALOGS直接調(diào)出玻璃數(shù)據(jù)窗口。RhZ紅軟基地
glass dispersion formulasRhZ紅軟基地
有9種色散公式:RhZ紅軟基地
(1)Schott:大多廠商在用;>6個(gè)參數(shù);RhZ紅軟基地
(2) the Sellmeier 1: >6個(gè)參數(shù);RhZ紅軟基地
(3) the Sellmeier 2: >6個(gè)參數(shù);RhZ紅軟基地
(4) the Sellmeier 3: >6個(gè)參數(shù);RhZ紅軟基地
(5) the Sellmeier 4: >6個(gè)參數(shù);RhZ紅軟基地
(6) the Herzberger:紅外光譜波段,5個(gè)參數(shù);RhZ紅軟基地
(7) the Conrady:數(shù)據(jù)比較少的時(shí)候用。只要3個(gè)數(shù)據(jù);RhZ紅軟基地
(8) 2個(gè) Handbookof Optics formulas。 RhZ紅軟基地
Defining Transmission DataRhZ紅軟基地
選擇“Transmission”可以在glass catalog中調(diào)出光強(qiáng)透射率數(shù)據(jù)編輯窗口。ZEMAX用Beer定律表示:RhZ紅軟基地
是吸收系數(shù),是在玻璃中的長度。RhZ紅軟基地
由三個(gè)數(shù)據(jù)組成:波長,光強(qiáng)透過率,參考厚度。RhZ紅軟基地
不是ZEMAX中提供的玻璃的透過率數(shù)據(jù)都是有效的,特別是紅外材料,和一些非商業(yè)玻璃。RhZ紅軟基地
自建玻璃庫的方法RhZ紅軟基地
(1)通過Tools>>Catalogs或Gla快捷方式打開Glass catalog。RhZ紅軟基地
改名RhZ紅軟基地
(2)在Glass Catalog中任意選定一種已有的玻璃庫,用Save Catalog As將它改名為自己的玻璃庫的名字(例如myglass);RhZ紅軟基地
MyglassRhZ紅軟基地
Fit Index DataRhZ紅軟基地
(3)點(diǎn)Fit Index Data,調(diào)出波長和折射率輸入窗口,輸入波長及其所對應(yīng)的折射率(一般至少六組數(shù)據(jù));RhZ紅軟基地
FitRhZ紅軟基地
(4)在Name欄輸入所添加的玻璃名稱,在Formula欄里選定所用的擬合公式,點(diǎn)Fit進(jìn)行數(shù)據(jù)擬合計(jì)算,并給出擬合誤差;RhZ紅軟基地
(5)點(diǎn)Add to catalog,則所添加的新玻璃就加到myglass玻璃庫中去了。RhZ紅軟基地
直接輸入色散系數(shù)的方法RhZ紅軟基地
將myglass里的玻璃名稱改為自己的(如K9),然后輸入色散系數(shù),然后點(diǎn)save catalog就將玻璃加到庫里面去了。RhZ紅軟基地
加入Transmission DataRhZ紅軟基地
     點(diǎn)Transmission ,調(diào)出transmission data窗口,輸入波長、透過率和厚度,然后保存就將透過率數(shù)據(jù)加到玻璃上去了。RhZ紅軟基地
Test Plate FittingRhZ紅軟基地
樣板比對RhZ紅軟基地
Tools>>test plate fittingRhZ紅軟基地
設(shè)置RhZ紅軟基地
File name:ZEMAX提供的廠商樣板庫目錄,文件擴(kuò)展名為.TPD。約有40多種;RhZ紅軟基地
Method of fit:比對的方法。包括:RhZ紅軟基地
Best to worstRhZ紅軟基地
Worst to bestRhZ紅軟基地
Long to shortRhZ紅軟基地
Short to longRhZ紅軟基地
Try all methods.RhZ紅軟基地
比對結(jié)果RhZ紅軟基地
給出不同方法所得到的結(jié)果。包括新、舊曲率半徑值,和對MF的影響量。RhZ紅軟基地
自建樣板庫RhZ紅軟基地
(1)打開已有的樣板庫:Tools>>Test plate lists.RhZ紅軟基地
(2)參照其格式輸入自己的樣板庫,編輯好,保存在指定的目錄下面即可。RhZ紅軟基地
Physical OpticsRhZ紅軟基地
Introduction of Physical OpticsRhZ紅軟基地
用傳播波前描述光學(xué)系統(tǒng)。RhZ紅軟基地
光束由分立的采樣點(diǎn)陣表示,每個(gè)點(diǎn)上的復(fù)振幅為:Ae-i 。RhZ紅軟基地
整個(gè)陣列通過光學(xué)面之間的自由空間傳播,在每一個(gè)光學(xué)面上,計(jì)算從光學(xué)面的一邊傳播到另一邊的傳遞函數(shù)。RhZ紅軟基地
可以研究隨機(jī)相干光通過光學(xué)系統(tǒng)的情況:RhZ紅軟基地
(1)Gaussian或任何形式的高階多模激光束 (beams are user definable),RhZ紅軟基地
(2)光束可以沿任何視場傳播(skew beams),RhZ紅軟基地
(3)可以計(jì)算系統(tǒng)中任何面上的振幅,位相和光強(qiáng),RhZ紅軟基地
(4)可以模擬有限大小孔徑衍射,包括空間濾波器,RhZ紅軟基地
(5)精確計(jì)算沿光束的傳播,不論是不是在焦點(diǎn)附近。RhZ紅軟基地
如果系統(tǒng)中有non-sequential component groups,則會(huì)不精確。RhZ紅軟基地
輸入x,y方向上高斯光腰的大小RhZ紅軟基地
用光腰到surface 1的距離定義光束的位置RhZ紅軟基地
在每個(gè)方向上,X,Y陣列的寬度至少是光腰的6-10倍, 光束假定定義在光腰,所以,整個(gè)光束初始位相是0。RhZ紅軟基地
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